金属纳米结构的制备及其光电特性研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 引言 | 第8-14页 |
| ·金属纳米结构材料 | 第8页 |
| ·银/铜纳米结构材料 | 第8-11页 |
| ·银/铜纳米材料的研究现状 | 第8-10页 |
| ·银/铜纳米材料的合成方法 | 第10-11页 |
| ·快离子导体材料概述 | 第11-12页 |
| ·快离子导体材料的特性及导电机理 | 第11页 |
| ·快离子导体材料的分类及应用 | 第11-12页 |
| ·选题思路及论文的主要研究内容 | 第12页 |
| ·选题意义 | 第12-14页 |
| 第2章 固态离子学方法的相关原理 | 第14-18页 |
| ·固态离子学方法的实验原理 | 第14页 |
| ·固态离子学方法的实验装置及步骤 | 第14-15页 |
| ·快离子导体传导离子的原理 | 第15-17页 |
| ·用固态离子学方法制备金属纳米材料的优点 | 第17-18页 |
| 第3章 快离子导体薄膜的制备研究 | 第18-23页 |
| ·薄膜制备方法的选择 | 第18页 |
| ·真空热蒸发镀膜原理及设备 | 第18-19页 |
| ·真空热蒸镀快离子导体薄膜的实验参数的确定 | 第19-22页 |
| ·真空度 | 第20页 |
| ·蒸发速率 | 第20-21页 |
| ·待蒸发材料的配比 | 第21页 |
| ·蒸发源 | 第21页 |
| ·基底及基底温度 | 第21-22页 |
| ·真空热蒸镀快离子导体薄膜的的工艺流程 | 第22-23页 |
| 第4章 影响纳米材料生长效果的各种因素 | 第23-32页 |
| ·快离子导体薄膜的选择对银纳米材料的影响 | 第23-26页 |
| ·电场强度对银纳米材料形貌的影响 | 第26-27页 |
| ·电场强度对银纳米材料排列有序度的影响 | 第27-28页 |
| ·电场强度对铜纳米材料形貌的影响 | 第28-30页 |
| ·温度对铜纳米材料形貌的影响 | 第30-32页 |
| 第5章 纳米材料生长机理的实时原位研究 | 第32-38页 |
| ·生长过程研究 | 第32-33页 |
| ·顶端生长机理 | 第33-35页 |
| ·电场强度对纳米结构生长的影响 | 第35-36页 |
| ·生长过程中的顶端优势 | 第36-38页 |
| 第6章 宏观长有序纳米线阵列的直接合成 | 第38-42页 |
| ·宏观长有序银纳米阵列的合成 | 第38-40页 |
| ·电流对银纳米线阵列的影响 | 第40-41页 |
| ·宏观有序铜纳米阵列的合成 | 第41-42页 |
| 第7章 宏观有序纳米线阵列的性质 | 第42-48页 |
| ·有序排列的纳米线阵列的电学特性 | 第42-43页 |
| ·银纳米线阵列的光电特性 | 第43-45页 |
| ·氧化亚铜包裹铜纳米线阵列的光敏特性 | 第45-47页 |
| ·宏观有序纳米线阵列的偏振特性 | 第47-48页 |
| 第8章 银纳米线阵列的拉曼增强特性 | 第48-51页 |
| ·宏观有序银纳米线薄膜的拉曼增强特性 | 第48-49页 |
| ·银纳米线排列有序度和密集度对拉曼增强效果的影响 | 第49-51页 |
| 第9章 电子束诱导构建纳米器件的构思 | 第51-54页 |
| 论文总结 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第61-62页 |
