中文摘要 | 第1-4页 |
英文摘要 | 第4-9页 |
1 绪论 | 第9-18页 |
·研究背景 | 第9-10页 |
·铝合金表面陶瓷化的制备方法 | 第10-11页 |
·等离子喷涂技术 | 第10页 |
·电子束物理气相沉积 | 第10-11页 |
·阳极氧化技术 | 第11页 |
·微等离子体氧化技术的研究概况 | 第11-16页 |
·微等离子体氧化技术的研究历史和现状 | 第11-12页 |
·微等离子体氧化的基本原理 | 第12-14页 |
·微等离子体氧化的工艺特点及膜层的性能特点 | 第14-16页 |
·微等离子体氧化的应用领域及前景 | 第16页 |
·本课题研究的目的、意义和内容 | 第16-17页 |
·本课题的技术路线 | 第17-18页 |
2 试验材料、设备与试验方法 | 第18-23页 |
·试验材料 | 第18-19页 |
·试验材料化学成分 | 第18页 |
·试样尺寸与制备 | 第18-19页 |
·微等离子体氧化电解液的配制 | 第19页 |
·试验设备 | 第19-20页 |
·微等离子体氧化处理设备 | 第19页 |
·陶瓷膜性能检测设备 | 第19-20页 |
·试验研究方法 | 第20-22页 |
·试验工艺过程 | 第20-21页 |
·陶瓷膜层性能检测 | 第21页 |
·MPO 陶瓷膜抗热冲击性能的评价方法 | 第21-22页 |
·本章小结 | 第22-23页 |
3 MPO 陶瓷膜制备工艺研究 | 第23-33页 |
·电解液配方的研究及优化 | 第23-28页 |
·微等离子体氧化工艺参数对陶瓷膜生长速度和性能的影响 | 第28-33页 |
·氧化时间对陶瓷膜厚度和性能的影响 | 第29-31页 |
·电流密度对陶瓷膜生长速度和性能的影响 | 第31-33页 |
4 微等离子体氧化的生长过程及机理 | 第33-36页 |
·微等离子体氧化陶瓷膜的生长过程 | 第33页 |
·微等离子体氧化陶瓷膜形成机理分析 | 第33-36页 |
5 MPO 陶瓷膜抗热冲击性能研究 | 第36-52页 |
·陶瓷膜在不同试验温度下的抗热冲击性能 | 第36-39页 |
·试验方法及方案 | 第36-37页 |
·试验现象及结果 | 第37-39页 |
·电流密度对MPO 陶瓷膜抗热冲击性能的影响 | 第39-40页 |
·试验方法及方案 | 第39页 |
·试验现象及结果 | 第39-40页 |
·MPO 陶瓷膜厚度与抗热冲击性能的关系 | 第40-42页 |
·试验方法及方案 | 第40页 |
·试验现象及结果 | 第40-42页 |
·MPO 陶瓷膜的XRD 分析 | 第42-43页 |
·MPO 陶瓷膜的形貌分析 | 第43页 |
·MPO 陶瓷膜抗热冲击失效机理的研究及性能评价 | 第43-50页 |
·本章小结 | 第50-52页 |
6 MPO 陶瓷膜活塞抗热冲击性能探讨 | 第52-59页 |
·热分析的理论基础 | 第52-54页 |
·活塞抗热冲击1维平壁模型 | 第54-55页 |
·MPO 陶瓷膜活塞抗热冲击性能的研究及讨论 | 第55-58页 |
·陶瓷膜层厚度对抗热冲击性能的影响 | 第56页 |
·冷端气流换热系数对抗热冲击性能的影响 | 第56-57页 |
·膜层导热系数对抗热冲击性能的影响 | 第57-58页 |
·各个因素对膜层抗热冲击性能的综合影响 | 第58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
7 结论与展望 | 第59-61页 |
·结论 | 第59页 |
·展望 | 第59-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-66页 |
附录 | 第66页 |