| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 导论 | 第10-24页 |
| §1.1 纳米材料 | 第10-11页 |
| §1.2 纳米复合材料 | 第11-12页 |
| §1.3 纳米阵列结构复合材料 | 第12-13页 |
| §1.4 硅基纳米复合材料 | 第13-15页 |
| §1.4.1 硅基纳米复合材料的研究现状 | 第13页 |
| §1.4.2 利用模板法合成硅基纳米阵列结构复合材料 | 第13-15页 |
| §1.5 金属/硅纳米复合体系 | 第15-17页 |
| §1.5.1 金属/多孔硅纳米复合体系 | 第15-16页 |
| §1.5.2 金属/多孔硅纳米复合体系退火过程研究 | 第16页 |
| §1.5.3 多孔硅基纳米粒子阵列 | 第16-17页 |
| §1.6 金属/硅纳米复合体系电学特性研究 | 第17-20页 |
| §1.6.1 金属/半导体接触概述 | 第17-18页 |
| §1.6.2 金属/半导体接触的势垒电流输运机制 | 第18-19页 |
| §1.6.3 金属/半导体肖特基势垒的测试 | 第19-20页 |
| §1.7 纳米镍的研究现状 | 第20-21页 |
| §1.8 开题思想 | 第21-23页 |
| §1.9 本论文的研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 镍/硅纳米孔柱阵列复合体系的制备与表征 | 第24-49页 |
| 引言 | 第24页 |
| §2.1 Si-NPA及Ni/Si-NPA的表征方法 | 第24-25页 |
| §2.2 Si-NPA的制备及微观形貌和结构 | 第25-28页 |
| §2.2.1 Si-NPA的制备 | 第25页 |
| §2.2.2 Si-NPA的微观形貌和结构 | 第25-27页 |
| §2.2.3 Si-NPA在碱性溶液中处理后的表面形貌和结构 | 第27-28页 |
| §2.3 新鲜Si-NPA在碱性NiSO_4溶液中的浸渍沉积 | 第28-29页 |
| §2.4 新鲜Si-NPA在碱性NiSO_4-NH_4F溶液中的浸渍沉积 | 第29-31页 |
| §2.5 Si-NPA在碱性NiSO_4-NH_4F溶液中的沉积及所得样品的形貌表证 | 第31-42页 |
| §2.5.1 Ni/Si-NPA的制备 | 第31页 |
| §2.5.2 溶液中Ni~(2+)浓度对Ni/Si-NPA表面形貌和结构的影响 | 第31-33页 |
| §2.5.3 溶液的pH值对Ni/Si-NPA的表面形貌和结构的影响 | 第33-36页 |
| §2.5.4 衬底的表面氧化状况对Ni/Si-NPA表面形貌和结构的影响 | 第36-39页 |
| §2.5.5 沉积时间对Ni/Si-NPA表面形貌和结构的影响 | 第39-42页 |
| §2.5.6 本节小结 | 第42页 |
| §2.6 Ni/Si-NPA纳米复合体系的浸渍沉积机理 | 第42-44页 |
| §2.6.1 镍在硅衬底上的沉积机理 | 第42-43页 |
| §2.6.2 不同形貌的Ni/Si-NPA的形成机理 | 第43-44页 |
| §2.7 退火温度对Ni/Si-NPA的形貌和结构的影响 | 第44-48页 |
| §2.7.1 Ni/Si-NPA退火前后的表面形貌和结构 | 第44-46页 |
| §2.7.2 表面成分分析 | 第46-48页 |
| §2.7.3 本节小结 | 第48页 |
| §2.8 本章总结 | 第48-49页 |
| 第三章 镍/硅纳米孔柱阵列电学特性研究 | 第49-61页 |
| §3.1 金属/多孔硅电学特性研究概述 | 第49-50页 |
| §3.2 Ni/Si-NPA/Si复合结构的电学测试 | 第50-58页 |
| §3.2.1 Ni/Si-NPA/Si复合结构常温下的I-V测试 | 第50-54页 |
| §3.2.2 Ni/Si-NPA/Si复合结构常温下的C-V测试 | 第54-55页 |
| §3.2.3 工作温度及样品的放置时间对Ni/Si-NPA电学特性的影响 | 第55-57页 |
| §3.2.4 沉积时间对Ni/Si-NPA电学特性的影响 | 第57-58页 |
| §3.3 退火后NiO/Si-NPA样品的电学测试 | 第58-60页 |
| §3.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 第四章 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-76页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第76页 |
| 硕士期间参加的项目 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
