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新型表面刻蚀装置的设计

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-7页
1 绪论第7-16页
   ·引言第7-8页
   ·硅原料产业及市场第8-10页
   ·廉价太阳级硅制备技术概况第10-13页
   ·课题概述第13-16页
2 直立平行板电极反应室中纯化硅的实验研究第16-32页
   ·实验装置介绍第16-18页
   ·实验方案设计第18页
   ·硅粉刻蚀纯化实验第18-22页
   ·实验结果第22-26页
   ·分析与讨论第26-30页
   ·实验改进的建议第30页
   ·小结第30-32页
3 新型反应室的设计第32-38页
   ·引言第32页
   ·设计思想第32-33页
   ·结构设计第33-37页
   ·原理说明第37-38页
4 新反应室纯化动力学分析第38-61页
   ·硅粉的运动学分析第38-45页
   ·等离子体鞘层分析第45-60页
   ·小结第60-61页
5 总结第61-62页
致谢第62-63页
参考文献第63-66页
附录1 攻读硕士学位期间发表的论文第66页

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