摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
1 绪论 | 第7-16页 |
·引言 | 第7-8页 |
·硅原料产业及市场 | 第8-10页 |
·廉价太阳级硅制备技术概况 | 第10-13页 |
·课题概述 | 第13-16页 |
2 直立平行板电极反应室中纯化硅的实验研究 | 第16-32页 |
·实验装置介绍 | 第16-18页 |
·实验方案设计 | 第18页 |
·硅粉刻蚀纯化实验 | 第18-22页 |
·实验结果 | 第22-26页 |
·分析与讨论 | 第26-30页 |
·实验改进的建议 | 第30页 |
·小结 | 第30-32页 |
3 新型反应室的设计 | 第32-38页 |
·引言 | 第32页 |
·设计思想 | 第32-33页 |
·结构设计 | 第33-37页 |
·原理说明 | 第37-38页 |
4 新反应室纯化动力学分析 | 第38-61页 |
·硅粉的运动学分析 | 第38-45页 |
·等离子体鞘层分析 | 第45-60页 |
·小结 | 第60-61页 |
5 总结 | 第61-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-66页 |
附录1 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第66页 |