| 中文摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-25页 |
| ·多孔硅的性质及其应用 | 第8-12页 |
| ·多孔硅的制备和结构 | 第12-14页 |
| ·多孔硅微结构和形成机理 | 第14-19页 |
| ·多孔硅力学性能研究方法现状 | 第19-23页 |
| ·本文的主要工作内容 | 第23-25页 |
| 第二章 多孔硅薄膜残余应力的研究 | 第25-57页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·薄膜残余应力的起源 | 第25-29页 |
| ·基片曲率法测量原理 | 第29-32页 |
| ·膜内平均应力的测量原理 | 第29-31页 |
| ·基片曲率法的种类 | 第31-32页 |
| ·阴影云纹法测量薄膜的曲率 | 第32-45页 |
| ·阴影云纹法简介 | 第32页 |
| ·阴影云纹法基本原理 | 第32-34页 |
| ·阴影云纹法相移技术原理 | 第34-38页 |
| ·基于最小二乘法估计的曲面拟合 | 第38-39页 |
| ·实验装置及曲率测量结果 | 第39-45页 |
| ·多孔硅薄膜残余应力测量结果及分析 | 第45-49页 |
| ·多孔硅薄膜残余应力的电子理论计算模拟 | 第49-56页 |
| ·界面应力的本质 | 第49-51页 |
| ·内应力的理论计算公式 | 第51-53页 |
| ·多孔硅薄膜表面电子密度与残余应力的计算 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第三章 多孔硅宏观弹性模量的数值模拟 | 第57-75页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·数值模拟方法研究现状 | 第57-60页 |
| ·数值模拟方法意义 | 第57-58页 |
| ·分子动力学方法 | 第58-60页 |
| ·准连续介质算法 | 第60页 |
| ·原子/连续介质嵌套算法的基本思想 | 第60-61页 |
| ·多孔硅材料硅基体弹性模量的模拟计算 | 第61-64页 |
| ·Tersoff模型建立的硅原子势函数 | 第61-62页 |
| ·基于原子势的连续介质方法对多孔硅基体的弹性模量的估算 | 第62-64页 |
| ·细观力学有限元法预测复合材料有效弹性模量的理论基础 | 第64-68页 |
| ·复合材料有效弹性模量的定义 | 第64-65页 |
| ·定义的基础及前提条件 | 第65-67页 |
| ·复合材料有效弹性模量的预测方法 | 第67页 |
| ·边界约束条件的确定 | 第67-68页 |
| ·有限元模型的建立 | 第68-70页 |
| ·计算结果与分析 | 第70-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 第四章 鼓泡法测量多孔硅薄膜弹性模量 | 第75-88页 |
| ·引言 | 第75-76页 |
| ·鼓泡法测量多孔硅薄膜弹性模量的实验方法 | 第76-78页 |
| ·实验原理 | 第76-77页 |
| ·实验装置 | 第77页 |
| ·实验过程 | 第77-78页 |
| ·鼓泡法测量多孔硅弹性模量的力学模型 | 第78-83页 |
| ·实验数据处理及结果分析 | 第83-86页 |
| ·本章小结 | 第86-88页 |
| 第五章 总结与展望 | 第88-92页 |
| ·全文总结 | 第88-90页 |
| ·多孔硅薄膜残余应力的光学测量 | 第88-89页 |
| ·多孔硅薄膜残余应力的TFD理论数值模拟 | 第89页 |
| ·多孔硅材料弹性模量的数值模拟 | 第89-90页 |
| ·多孔硅材料弹性模量的实验研究 | 第90页 |
| ·有待进一步研究的若干问题 | 第90-92页 |
| 参考文献 | 第92-102页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第102-103页 |
| 致谢 | 第103页 |