摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
1. 引言 | 第9-12页 |
·发展测量中子单色器镶嵌角技术的意义 | 第9-10页 |
·发展用γ衍射方法测量中子单色器镶嵌角技术的意义 | 第10-11页 |
·本论文的研究内容 | 第11-12页 |
2. γ衍射测量单色器镶嵌角的原理和装置 | 第12-23页 |
·γ射线衍射的物理基础 | 第12-20页 |
·γ射线衍射原理 | 第12-13页 |
·γ射线衍射方程 | 第13-17页 |
·劳厄方程 | 第14-15页 |
·布拉格方程 | 第15-16页 |
·系统消光现象 | 第16-17页 |
·镶嵌晶体的衍射 | 第17-19页 |
·γ射线衍射研究方法 | 第19-20页 |
·γ射线衍射测量镶嵌角的方法 | 第20-21页 |
·γ衍射镶嵌角测量装置各组成部件的作用和设计要求 | 第21-23页 |
3. 用于中子单色器镶嵌角测量的γ衍射源的制备方法和设计 | 第23-38页 |
·单色器镶嵌角测量对γ源的要求 | 第23页 |
·衍射用γ源的选择和制备方法 | 第23-26页 |
·衍射用γ源的选择 | 第23-25页 |
·衍射用γ源的制备 | 第25-26页 |
·衍射γ源金片的蒙特卡罗方法设计 | 第26-38页 |
·对金片进行设计的意义 | 第26-27页 |
·Monte-Carlo方法及其通用软件MCNP介绍 | 第27-28页 |
·中子活化金片的均匀性研究 | 第28-30页 |
·~(198)Au γ源自吸收对衍射γ源强和单能性的影响研究 | 第30-34页 |
·衍射γ源金片的尺寸选择和源的强度估算 | 第34-35页 |
·~(198)Au的次级活化效应对衍射γ源的影响 | 第35-38页 |
4. γ衍射镶嵌角测量装置的其余部件和整体设计 | 第38-49页 |
·准直器设计 | 第38-39页 |
·衍射γ测量用探测器的选择和设计 | 第39-43页 |
·探测器的选择 | 第39-42页 |
·探测系统的建立 | 第42-43页 |
·衍射装置的几何布局设计 | 第43-44页 |
·衍射用强γ源的屏蔽设计和安全运输 | 第44-49页 |
·强γ源的屏蔽设计 | 第44-47页 |
·强γ源的运输 | 第47-49页 |
5. 小结 | 第49-51页 |
参考文献 | 第51-54页 |
发表论文 | 第54-56页 |
致谢 | 第56页 |