TbDyFe薄膜对三明治膜巨磁阻抗效应的影响
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-25页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·GMI效应的理论研究 | 第8-9页 |
| ·GMI效应的实验研究 | 第9-20页 |
| ·不同结构的巨磁阻抗材料 | 第10-13页 |
| ·丝的GMI效应 | 第10-11页 |
| ·薄带的GMI效应 | 第11页 |
| ·膜的GMI效应 | 第11-13页 |
| ·影响GMI效应的因素 | 第13-20页 |
| ·磁性材料 | 第13-14页 |
| ·驱动电流频率 | 第14-15页 |
| ·磁各向异性 | 第15-18页 |
| ·几何尺寸 | 第18-20页 |
| ·GMI效应的应用研究 | 第20-21页 |
| ·论文主要工作 | 第21-25页 |
| ·选题意义 | 第21页 |
| ·研究目标 | 第21页 |
| ·研究内容 | 第21-25页 |
| 第二章 实验内容与实验方法 | 第25-36页 |
| ·样品制备 | 第25-30页 |
| ·基片的选择和预处理 | 第25页 |
| ·靶材 | 第25-26页 |
| ·真空蒸镀法 | 第26-27页 |
| ·薄膜制备工艺 | 第27-30页 |
| ·工艺参数 | 第28-29页 |
| ·蒸镀模具 | 第29-30页 |
| ·退火处理 | 第30-31页 |
| ·高温退火 | 第30页 |
| ·低温退火 | 第30-31页 |
| ·测试方法 | 第31-36页 |
| ·膜厚测量 | 第31页 |
| ·磁性能测量 | 第31-32页 |
| ·X射线衍射分析 | 第32-33页 |
| ·俄歇电子能谱(AES)分析 | 第33页 |
| ·阻抗分析 | 第33-36页 |
| 第三章 实验结果以及分析 | 第36-52页 |
| ·TbDyFe薄膜性能研究 | 第36-41页 |
| ·退火态与制备态XRD分析 | 第36-38页 |
| ·不同厚度退火态XRD比较 | 第38-39页 |
| ·TbDyFe薄膜的磁性分析 | 第39-41页 |
| ·TbDyFe／NiFeSiMnMo两层膜的研究 | 第41-43页 |
| ·TbDyFe四层膜的巨磁阻抗效应 | 第43-46页 |
| ·阻抗与频率的关系 | 第43-45页 |
| ·GMI效应与外加磁场的关系 | 第45-46页 |
| ·TbDyFe薄膜对三明治膜GMI的影响 | 第46-50页 |
| ·三明治膜与制备态四层膜GMI效应的比较 | 第46-49页 |
| ·三明治膜与退火态四层膜GMI效应的比较 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 致谢 | 第52页 |
