原位反应烧结制备氮化硅基复相陶瓷及其环境性能
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-28页 |
| ·前言 | 第11页 |
| ·氮化硅陶瓷的介绍 | 第11-13页 |
| ·氮化硅陶瓷的基本性能和应用 | 第12-13页 |
| ·氮化硅陶瓷在有色合金熔炼行业应用的优越性 | 第13页 |
| ·氮化硅陶瓷存在问题和发展方向 | 第13页 |
| ·氮化硅基复相陶瓷 | 第13-19页 |
| ·Si_3N_4—Si_2N_2O复相陶瓷 | 第14-15页 |
| ·Si_3N_4—SiC复相陶瓷 | 第15-17页 |
| ·Si_3N_4—O'-Sialon复相陶瓷 | 第17-19页 |
| ·陶瓷的成型技术 | 第19-23页 |
| ·陶瓷成型方法的分类 | 第19-20页 |
| ·冷等静压简介 | 第20-21页 |
| ·冷等静压技术特点 | 第21页 |
| ·冷等静压成型在陶瓷方面的应用 | 第21-22页 |
| ·成型中使用的粘结剂 | 第22-23页 |
| ·氮化硅陶瓷的烧结方式 | 第23-26页 |
| ·氮化硅烧结方式分类 | 第23-24页 |
| ·反应烧结氮化硅 | 第24-26页 |
| ·本课题的选题依据和研究目的、内容 | 第26-28页 |
| ·研究目的 | 第26-27页 |
| ·研究内容 | 第27-28页 |
| 第二章 实验方案及研究方法 | 第28-36页 |
| ·制备Si_3N_4基复相陶瓷用原材料 | 第28-29页 |
| ·硅粉 | 第28页 |
| ·粘结剂 | 第28-29页 |
| ·成型设备及工艺 | 第29-30页 |
| ·成型设备 | 第29页 |
| ·成型工艺 | 第29-30页 |
| ·材料烧结设备及工艺 | 第30-32页 |
| ·常压烧结 | 第30-31页 |
| ·高压烧结 | 第31-32页 |
| ·研究方法 | 第32-36页 |
| ·粘结剂加入量的确定 | 第32-33页 |
| ·材料成份的分析及微观结构观察 | 第33页 |
| ·材料基本物理性能测试 | 第33-34页 |
| ·材料环境性能测试 | 第34-36页 |
| 第三章 粘结剂对坯体强度的影响 | 第36-47页 |
| ·前言 | 第36页 |
| ·聚乙烯醇含量与坯体强度的关系 | 第36-38页 |
| ·粘结剂种类及其组合选择 | 第38-39页 |
| ·实验结果分析 | 第39-43页 |
| ·硅溶胶含量与坯体强度的关系 | 第39-40页 |
| ·粘土含量与坯体强度的关系 | 第40-42页 |
| ·酚醛树脂含量与坯体强度的关系 | 第42-43页 |
| ·确定粘结剂含量及机械加工试验 | 第43-46页 |
| ·粘结剂最佳含量 | 第43-44页 |
| ·机械加工试验 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 材料成分分析、微结构观察 | 第47-60页 |
| ·前言 | 第47页 |
| ·结果分析 | 第47-59页 |
| ·材料物相组成及含量 | 第47-53页 |
| ·材料微观结构 | 第53-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 高压烧结工艺探索 | 第60-68页 |
| ·前言 | 第60页 |
| ·烧结工艺方案及增重结果 | 第60-61页 |
| ·烧结实验结果讨论 | 第61-65页 |
| ·温度与氮化率的关系 | 第61-63页 |
| ·气压与氮化率的关系 | 第63-64页 |
| ·氮化工艺的确定 | 第64-65页 |
| ·高压烧结对材料微结构的影响 | 第65-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第六章 材料性能研究 | 第68-83页 |
| ·前言 | 第68页 |
| ·材料基本物理性能 | 第68-69页 |
| ·材料环境性能 | 第69-81页 |
| ·热扩散系数测试 | 第69-70页 |
| ·抗热震性能研究 | 第70-74页 |
| ·抗氧化性能研究 | 第74-80页 |
| ·材料对铝合金硅元素含量的影响 | 第80-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 结论 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-92页 |
| 硕士期间所取得的成果及发表的学术论文 | 第92-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
| 西北工业大学 学位论文知识产权声明书 | 第94页 |
| 西北工业大学 学位论文原创性声明 | 第94页 |
