硬质合金高温化学气相沉积TiN涂层工艺及性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-29页 |
| ·课题背景 | 第9-10页 |
| ·硬质涂层简介 | 第10-15页 |
| ·硬质涂层定义、分类及性能 | 第10-12页 |
| ·硬质涂层的发展及应用 | 第12-15页 |
| ·TiN 硬质涂层的研究现状 | 第15-19页 |
| ·TiN 结构与性质 | 第15-17页 |
| ·TiN 涂层的应用 | 第17-18页 |
| ·TiN 涂层的制备方法 | 第18-19页 |
| ·薄膜生长机理 | 第19-21页 |
| ·化学气相沉积技术（CVD） | 第21-27页 |
| ·CVD 法的原理和特点 | 第21-23页 |
| ·影响CVD 反应的主要参数 | 第23页 |
| ·硬质合金上CVD-TiN 涂层制备工艺 | 第23-24页 |
| ·新型CVD 法的发展和应用 | 第24-27页 |
| ·研究的意义、内容及技术路线 | 第27-29页 |
| ·研究意义 | 第27页 |
| ·研究内容 | 第27-28页 |
| ·研究技术路线 | 第28-29页 |
| 2 实验设备及方法 | 第29-37页 |
| ·CVD（Z）中温真空气氛管式炉 | 第29-32页 |
| ·技术指标 | 第29页 |
| ·结构介绍 | 第29-30页 |
| ·温控方式 | 第30-31页 |
| ·真空气路系统 | 第31-32页 |
| ·实验材料及基体预处理 | 第32页 |
| ·实验材料 | 第32页 |
| ·基体试样预处理 | 第32页 |
| ·TiN 硬质涂层的制备 | 第32-34页 |
| ·实验工艺流程 | 第32页 |
| ·实验工艺参数 | 第32-34页 |
| ·表面物相、成分及元素化合价态检测 | 第34页 |
| ·X 射线衍射检测 | 第34页 |
| ·X 射线光电子检测 | 第34页 |
| ·断口形貌观察及截面元素分布检测 | 第34-35页 |
| ·扫描电镜观察 | 第34页 |
| ·X 射线能谱色散谱检测 | 第34-35页 |
| ·涂层主要性能测试 | 第35-37页 |
| ·显微硬度测试 | 第35页 |
| ·膜基结合力测试 | 第35-36页 |
| ·抗弯强度测试 | 第36-37页 |
| ·沉积速率与堆积因子测量 | 第37页 |
| 3 TiN 涂层物相、化合价态及形貌分析 | 第37-71页 |
| ·TiN 涂层物相分析和晶体学分析 | 第37-53页 |
| ·涂层物相分析 | 第37-48页 |
| ·涂层择优生长取向分析 | 第48-50页 |
| ·涂层晶体参数分析 | 第50-53页 |
| ·TiN 涂层XPS 分析 | 第53-59页 |
| ·TiN 涂层表观、断口形貌及沉积速率分析 | 第59-71页 |
| ·金相观察与SEM 扫描分析 | 第59-62页 |
| ·EDS 线扫描分析 | 第62-66页 |
| ·沉积速率及生长热力学、动力学分析 | 第66-71页 |
| 4 TiN 涂层的主要性能分析 | 第71-82页 |
| ·TiN 涂层显微硬度结果分析 | 第71页 |
| ·TiN 涂层膜基结合力结果分析 | 第71-75页 |
| ·抗弯强度结果分析 | 第75-76页 |
| ·正交试验分析 | 第76-82页 |
| 结论 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-86页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
