| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·半导体概述 | 第10-11页 |
| ·二氧化钛的晶体结构 | 第11-13页 |
| ·二氧化钛的三种晶相 | 第11-12页 |
| ·金红石与锐钛矿 | 第12-13页 |
| ·二氧化钛的光电催化原理 | 第13-15页 |
| ·二氧化钛的能带结构 | 第14页 |
| ·二氧化钛的光电催化原理 | 第14-15页 |
| ·二氧化钛的制备方法 | 第15-19页 |
| ·粉体二氧化钛的制备 | 第15-17页 |
| ·物理法制备粉体二氧化钛 | 第16页 |
| ·化学法制备粉体二氧化钛 | 第16-17页 |
| ·固定相二氧化钛的制备 | 第17-19页 |
| ·半导体光催化剂性能的改进 | 第19-21页 |
| ·复合半导体 | 第19-20页 |
| ·贵金属沉积 | 第20页 |
| ·金属离子的修饰 | 第20-21页 |
| ·国内外光电催化研究现状 | 第21-22页 |
| ·本论文研究思路 | 第22-24页 |
| 第二章 TiO_2光催化剂的制备与性能研究 | 第24-35页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·实验部分 | 第24-27页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第24-25页 |
| ·二氧化钛光催化剂的制备 | 第25页 |
| ·光电催化实验 | 第25-27页 |
| ·实验结果与讨论 | 第27-34页 |
| ·催化剂的表征 | 第27-30页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第27页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第27-28页 |
| ·计时电流法(CA) | 第28-30页 |
| ·TiO_2光催化性能研究 | 第30-34页 |
| ·锐钛矿相TiO_2的光、电、光电催化性能 | 第30页 |
| ·混晶相TiO_2的光、电、光电催化性能 | 第30-32页 |
| ·金红石相TiO_2的光、电、光电催化性能 | 第32-33页 |
| ·电子受体KlO_4对金红石相TiO_2的促进作用 | 第33-34页 |
| ·结论 | 第34-35页 |
| 第三章 TiO_2／Ti网的制备与性能研究 | 第35-50页 |
| ·引言 | 第35-36页 |
| ·实验部分 | 第36-37页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第36页 |
| ·TiO_2／Ti网的制备 | 第36页 |
| ·光电催化实验 | 第36-37页 |
| ·结果与讨论 | 第37-48页 |
| ·TiO_2／Ti的表征 | 第37-40页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第37-38页 |
| ·扫描电子显微镜(TEM) | 第38-40页 |
| ·金红石TiO_2／Ti网的光电催化性能研究 | 第40-48页 |
| ·煅烧温度对TiO_2／Ti网催化活性的影响 | 第40-41页 |
| ·煅烧时间对TiO_2／Ti网催化活性的影响 | 第41页 |
| ·外加电压对TiO_2／Ti网催化活性的影响 | 第41-42页 |
| ·光强对TiO_2／Ti网催化活性的影响 | 第42-43页 |
| ·不同处理条件下TiO_2／Ti网的催化活性 | 第43页 |
| ·TiO_2／Ti网的重复使用率 | 第43-44页 |
| ·电子受体对TiO_2／Ti网催化活性的影响 | 第44-48页 |
| ·结论 | 第48-50页 |
| 第四章 WO_3-TiO_2复合薄膜的制备与光电催化性能研究 | 第50-59页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·实验部分 | 第50-53页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第50-51页 |
| ·WO_3-TiO_2复合薄膜的制备 | 第51页 |
| ·光电催化实验 | 第51-53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-58页 |
| ·催化剂的表征 | 第53-55页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第53-54页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第54-55页 |
| ·光电催化性能考察 | 第55-58页 |
| ·钨掺杂量对催化剂活性的影响 | 第55-56页 |
| ·煅烧温度对催化剂活性的影响 | 第56-57页 |
| ·不同处理条件下催化剂的催化活性 | 第57-58页 |
| ·结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-66页 |
| 附录 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |