摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-15页 |
第一章 绪论 | 第15-21页 |
·等离子体交叉场调制开关(PCMS 管)工作简介 | 第15-17页 |
·PCMS 管基本结构 | 第15-16页 |
·PCMS 管工作原理 | 第16-17页 |
·国内外研究现状 | 第17页 |
·数值模拟方法 | 第17-19页 |
·PIC-MCC 方法 | 第18页 |
·FDTD 方法 | 第18-19页 |
·有限元法 | 第19页 |
·本论文研究的意义、目的和内容 | 第19-21页 |
第二章 气体放电及相关理论分析 | 第21-33页 |
·带电粒子在气体中的运动 | 第21-27页 |
·带电粒子的产生与消失 | 第21-22页 |
·带电粒子在气体中的迁移运动 | 第22-24页 |
·带电粒子在气体中的扩散运动 | 第24-26页 |
·带电粒子在交叉场中的迁移扩散 | 第26-27页 |
·气体放电特性与原理 | 第27-30页 |
·汤森德理论 | 第27-29页 |
·帕邢定律 | 第29-30页 |
·气体放电伏安特性 | 第30-33页 |
第三章 等离子体交叉场调制开关内工作气体相关反应的模拟分析 | 第33-51页 |
·等离子体中的反应 | 第33-37页 |
·弹性碰撞 | 第33-34页 |
·激发和电离 | 第34-35页 |
·复合 | 第35-37页 |
·关于负离子反应 | 第37页 |
·氢等离子体中的主要反应 | 第37-40页 |
·在氢等离子体中存在的主要反应 | 第37-38页 |
·纯氢等离子体中的反应类型 | 第38-40页 |
·PCMS 管的建模 | 第40-43页 |
·几何建模 | 第40-41页 |
·物理建模 | 第41-43页 |
·PCMS 管中相关反应的模拟分析 | 第43-49页 |
·理论分析 | 第43-45页 |
·模拟结果和分析 | 第45-49页 |
·结论 | 第49-51页 |
第四章 影响等离子体交叉场调制开关工作过程的数值模拟 | 第51-61页 |
·压强对等离子体交叉场调制开关工作过程的模拟分析 | 第51-57页 |
·压强对电子温度的影响 | 第51-53页 |
·压强对阴极位降区域的影响 | 第53-54页 |
·压强对着火时间的影响 | 第54-55页 |
·压强变化对电子密度分布影响 | 第55-57页 |
·迁移率对等离子体交叉场调制开关工作过程的模拟分析 | 第57-58页 |
·击穿电压对等离子体交叉场调制开关工作过程的模拟分析 | 第58-59页 |
·模拟曲线与帕邢曲线的对比 | 第59页 |
·小结 | 第59-61页 |
第五章 实验与模拟对比验证 | 第61-67页 |
·实验测试电路 | 第61-62页 |
·考虑 11 种反应的模拟结果 | 第62-65页 |
·有限元与有限差分法的对比 | 第62-63页 |
·实验测试与模拟结果比较 | 第63-65页 |
·PCMS 管压强测试 | 第65-66页 |
·结论 | 第66-67页 |
第六章 总结 | 第67-69页 |
参考文献 | 第69-72页 |
致谢 | 第72-73页 |
攻读学位期间的研究成果及发表的学术论文 | 第73-74页 |
作者简介 | 第74页 |
导师简介 | 第74-75页 |
附件 | 第75-76页 |