| 目录 | 第1-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-28页 |
| ·TiO_2光电半导体研究的发展及现状 | 第10-11页 |
| ·TiO_2的光催化机理 | 第11-13页 |
| ·TiO_2表面的超亲水性 | 第13-16页 |
| ·TiO_2薄膜的应用 | 第16-17页 |
| ·TiO_2易清洁薄膜 | 第16页 |
| ·TiO_2亲水防雾涂层 | 第16-17页 |
| ·污水处理 | 第17页 |
| ·医疗卫生 | 第17页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第17-20页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第17-18页 |
| ·直流反应磁控溅射法 | 第18-19页 |
| ·CVD法 | 第19页 |
| ·阴极电沉积法 | 第19页 |
| ·粘结剂法 | 第19-20页 |
| ·喷雾热解法 | 第20页 |
| ·喷雾热解法介绍 | 第20-26页 |
| ·喷雾热解发生过程 | 第20-22页 |
| ·喷雾热解流程 | 第22页 |
| ·工艺过程及其影响因素 | 第22-26页 |
| ·选题角度的确定 | 第26-28页 |
| 第二章 实验过程 | 第28-35页 |
| ·先驱体的选用 | 第28页 |
| ·实验设备与器材 | 第28-30页 |
| ·设备说明 | 第28-29页 |
| ·成膜设备的组成 | 第29-30页 |
| ·试样制备过程 | 第30-31页 |
| ·主要原料 | 第30页 |
| ·先驱体溶液的配制 | 第30页 |
| ·玻璃基板的清洗 | 第30页 |
| ·喷雾热解成膜 | 第30-31页 |
| ·实验流程图 | 第31页 |
| ·测试方法 | 第31-35页 |
| ·膜成分的测试 | 第31-32页 |
| ·膜结构和表面形貌的测试 | 第32-33页 |
| ·薄膜的厚度的测定 | 第33页 |
| ·薄膜的紫外-可见透射／吸收光谱分析 | 第33页 |
| ·光源的选择 | 第33页 |
| ·薄膜的亲水性能的测试 | 第33-35页 |
| 第三章 TiO_2薄膜的形貌、结构和成膜机理的分析 | 第35-53页 |
| ·薄膜的厚度分析 | 第35-37页 |
| ·薄膜的微观结构分析 | 第37-46页 |
| ·薄膜的XRD结构分析 | 第37-40页 |
| ·薄膜的表面形貌分析 | 第40-44页 |
| ·薄膜的纳米尺度形貌分析 | 第44-46页 |
| ·喷雾热解法成膜机理的探讨 | 第46-52页 |
| ·TiO_2薄膜的成膜过程 | 第46-48页 |
| ·薄膜的形成机理 | 第48-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 TiO_2薄膜的性能分析 | 第53-65页 |
| ·TiO_2薄膜的光学性能分析 | 第53-58页 |
| ·紫外-可见透射光谱分析 | 第53-55页 |
| ·薄膜的紫外-可见吸收光谱分析 | 第55-57页 |
| ·薄膜的光学能隙的计算 | 第57-58页 |
| ·薄膜的亲水性能测试 | 第58-63页 |
| ·薄膜的光致亲水性能测试 | 第58-61页 |
| ·薄膜亲水性能保持时间测试 | 第61页 |
| ·TiO_2薄膜亲水性能的分析与讨论 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 TiO_2薄膜的掺杂改性 | 第65-73页 |
| ·掺杂对薄膜结构和微观形貌的影响 | 第65-67页 |
| ·薄膜的成分分析(EDAX) | 第67-68页 |
| ·Fe掺杂薄膜 | 第67-68页 |
| ·Zn掺杂薄膜 | 第68页 |
| ·掺杂对薄膜性能的影响 | 第68-71页 |
| ·薄膜的光性能分析 | 第68-69页 |
| ·薄膜光学能隙的计算 | 第69-70页 |
| ·薄膜亲水性能测试 | 第70-71页 |
| ·TiO_2薄膜掺杂改性讨论 | 第71-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第81页 |