超临界流体抗溶剂法制备羟基喜树碱和喜树碱纳米晶体
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-24页 |
| ·研究背景 | 第9-12页 |
| ·喜树碱的介绍 | 第9-10页 |
| ·羟基喜树碱的介绍 | 第10-11页 |
| ·抗癌作用机理及剂型的研究进展 | 第11-12页 |
| ·药物多晶型 | 第12-15页 |
| ·药物多晶型的研究意义 | 第12-13页 |
| ·药物多晶型的稳定性 | 第13-14页 |
| ·多晶型的转化 | 第14-15页 |
| ·超临界流体技术在药物多晶型方面的应用 | 第15-22页 |
| ·超临界流体技术的研究进展 | 第15-17页 |
| ·超临界二氧化碳作为溶剂制备药物多晶型 | 第17-19页 |
| ·超临界二氧化碳作为溶质制备药物多晶型 | 第19页 |
| ·超临界二氧化碳作为抗溶剂制备药物多晶型 | 第19-22页 |
| ·本论文的研究目标和研究内容 | 第22-24页 |
| ·研究目标 | 第22页 |
| ·研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 实验方法 | 第24-30页 |
| ·实验药品与仪器 | 第24-25页 |
| ·实验药品 | 第24页 |
| ·实验仪器 | 第24-25页 |
| ·实验药品的理化性质 | 第25页 |
| ·实验装置及方法 | 第25-26页 |
| ·表征方法 | 第26-30页 |
| ·纳米颗粒粒径的表征 | 第26-27页 |
| ·FT-IR 测试 | 第27页 |
| ·残留溶剂表征 | 第27-29页 |
| ·形貌的表征 | 第29页 |
| ·X-射线衍射表征 | 第29页 |
| ·差示扫描量热分析和热重分析 | 第29-30页 |
| 第三章 羟基喜树碱纳米晶体的研究 | 第30-42页 |
| ·溶剂体系的选择 | 第30-31页 |
| ·实验设计 | 第31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-40页 |
| ·优化设计 | 第31-33页 |
| ·红外光谱(FT-IR)结果 | 第33-34页 |
| ·样品残留溶剂分析 | 第34页 |
| ·扫描电镜和 X-射线衍射结果分析 | 第34-38页 |
| ·差示扫描量热和热重分析的结果 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第四章 喜树碱纳米晶体的研究 | 第42-55页 |
| ·实验条件及结果 | 第42-43页 |
| ·过程参数对粒径影响的分析 | 第43-48页 |
| ·喜树碱的浓度对喜树碱平均粒径的影响 | 第43-44页 |
| ·温度对喜树碱平均粒径的影响 | 第44-45页 |
| ·压力对喜树碱平均粒径的影响 | 第45-46页 |
| ·溶剂配比对喜树碱平均粒径的影响 | 第46-47页 |
| ·溶液流速对喜树碱平均粒径的影响 | 第47-48页 |
| ·过程参数对晶型形貌的影响 | 第48-54页 |
| ·喜树碱的结晶度的表征 | 第48-50页 |
| ·喜树碱形貌的分析 | 第50-52页 |
| ·喜树碱热行为的分析 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 结论与展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 附件 | 第64页 |
