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插Si层的Pt/Co多层膜的结构、磁性和磁光特性的研究

中文摘要第1-4页
英文摘要第4-7页
第一章 引言第7-10页
 1.1 磁光存储原理第7-8页
 1.2 磁光存储技术的发展及研究现状第8-9页
 1.3 本文的研究工作第9-10页
第二章 实验分析的基本理论简介第10-22页
 2.1 磁光效应概述第10页
 2.2 磁光效应的唯象理论第10-14页
 2.3 磁光效应的微观机制第14-16页
 2.4 磁性多层膜磁性和磁光特性简介第16-22页
  2.4.1 磁性多层膜的垂直各向异性第16-18页
  2.4.2 自旋极化第18-20页
  2.4.3 磁光Kerr特性研究概况第20-22页
第三章 实验样品的制备及分析手段第22-33页
 3.1 多层膜样品的制备第22-24页
  3.1.1 磁控溅射现象及原理第22-23页
  3.1.2 多层膜样品的制备第23-24页
 3.2 多层膜样品的测试及原理第24-33页
  3.2.1 多层膜结构的X射线衍射分析第24-25页
  3.2.2 膜厚测量第25页
  3.2.3 磁性参数的测量第25-27页
  3.2.4 磁畴的观察原理第27-29页
  3.2.5 磁光参数的测量第29-33页
第四章 Pt/Co多层膜插层Si的结构、磁性、和磁光特性的研究第33-48页
 4.1 引言第33-34页
 4.2 实验第34页
 4.3 实验和结果分析第34-48页
  4.3.1 多层膜样品的结构分析第34-37页
  4.3.2 多层膜样品的磁性分析第37-42页
  4.3.3 多层膜样品的磁光特性分析第42-48页
参考文献第48-53页
结论第53-54页
致谢第54页

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