中文摘要 | 第1-4页 |
英文摘要 | 第4-7页 |
第一章 引言 | 第7-10页 |
1.1 磁光存储原理 | 第7-8页 |
1.2 磁光存储技术的发展及研究现状 | 第8-9页 |
1.3 本文的研究工作 | 第9-10页 |
第二章 实验分析的基本理论简介 | 第10-22页 |
2.1 磁光效应概述 | 第10页 |
2.2 磁光效应的唯象理论 | 第10-14页 |
2.3 磁光效应的微观机制 | 第14-16页 |
2.4 磁性多层膜磁性和磁光特性简介 | 第16-22页 |
2.4.1 磁性多层膜的垂直各向异性 | 第16-18页 |
2.4.2 自旋极化 | 第18-20页 |
2.4.3 磁光Kerr特性研究概况 | 第20-22页 |
第三章 实验样品的制备及分析手段 | 第22-33页 |
3.1 多层膜样品的制备 | 第22-24页 |
3.1.1 磁控溅射现象及原理 | 第22-23页 |
3.1.2 多层膜样品的制备 | 第23-24页 |
3.2 多层膜样品的测试及原理 | 第24-33页 |
3.2.1 多层膜结构的X射线衍射分析 | 第24-25页 |
3.2.2 膜厚测量 | 第25页 |
3.2.3 磁性参数的测量 | 第25-27页 |
3.2.4 磁畴的观察原理 | 第27-29页 |
3.2.5 磁光参数的测量 | 第29-33页 |
第四章 Pt/Co多层膜插层Si的结构、磁性、和磁光特性的研究 | 第33-48页 |
4.1 引言 | 第33-34页 |
4.2 实验 | 第34页 |
4.3 实验和结果分析 | 第34-48页 |
4.3.1 多层膜样品的结构分析 | 第34-37页 |
4.3.2 多层膜样品的磁性分析 | 第37-42页 |
4.3.3 多层膜样品的磁光特性分析 | 第42-48页 |
参考文献 | 第48-53页 |
结论 | 第53-54页 |
致谢 | 第54页 |