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多孔阳极氧化铝镶嵌复合材料的光学性质研究

第一章 多孔铝概述第1-19页
 §1.1 多孔铝形态与形成机制第8-11页
  1.1.1 多孔铝形态第8-9页
  1.1.2 多孔铝形成机制第9-11页
 §1.2 制备方法第11-12页
 §1.3 制备初期阶段的电流——电压关系第12-13页
 §1.4 制备条件对膜性质的影响第13-15页
  1.4.1 阳极氧化电压对膜性质的影响第13-14页
  1.4.2 电解液对膜性质的影响第14-15页
 §1.5 应用前景简述第15-17页
 参考文献第17-19页
第二章 多孔铝镶嵌发光材料的光学性质第19-38页
 §2.1 引言第19-21页
 §2.2 多孔铝基质的优点第21-22页
 §2.3 样品制备与测量第22-23页
 §2.4 激光染料在多孔铝中的发光研究第23-28页
  2.4.1 有机染料光谱性质第23-24页
  2.4.2 染料在多孔铝中的光谱性质第24-28页
 §2.5 RHB在多孔铝中的发光强度的提高第28-35页
  2.5.1 RHB无水乙醇溶液的浓度的影响第28-29页
  2.5.2 多孔铝制备条件的影响第29-35页
 §2.6 小结第35-36页
 参考文献第36-38页
第三章 多孔铝膜偏振性质研究第38-55页
 §3.1 引言第38-39页
 §3.2 理论分析第39-44页
 §3.3 样品制备第44-45页
 §3.4 测量与结果第45-49页
 §3.5 剩余铝柱的二向色性第49-51页
 §3.6 小结第51-53页
 参考文献第53-55页
发表文章目录第55-57页
致谢第57页

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