超导RFQ模型腔的铌溅射研究和V3Si超导膜材制作工艺
| <关键词> | 第1页 |
| <中文摘要> | 第4-5页 |
| <英文关键词> | 第5页 |
| <英文摘要> | 第5-6页 |
| 第一章 超导谐振腔简介 | 第6-36页 |
| ·射频（RF）加速与超导材料 | 第7-14页 |
| ·超导腔设计和测量 | 第14-20页 |
| ·铌溅射技术简介 | 第20-26页 |
| ·溅射锯QWR | 第26-30页 |
| ·溅射铌1.5GHz单室球腔 | 第30-35页 |
| ·溅射铌腔的有关探讨 | 第35-36页 |
| 第二章 模型RFQ腔的铌溅射 | 第36-55页 |
| ·超导RFQ设计 | 第37-43页 |
| ·SRFQ的磁控溅射装置 | 第43-47页 |
| ·不锈钢和铜的溅射实验 | 第47-50页 |
| ·铌靶溅射实验 | 第50-54页 |
| ·讨论 | 第54-55页 |
| 第三章 V_3Si膜的对溅射实验 | 第55-73页 |
| ·简介 | 第56-58页 |
| ·溅射实验装置 | 第58-62页 |
| ·铌溅射实验 | 第62-64页 |
| ·对溅射V_3Si实验 | 第64-66页 |
| ·样品分析 | 第66-70页 |
| ·探讨与结论 | 第70-73页 |
| 第四章 反应溅射V_3Si膜实验 | 第73-86页 |
| ·简介 | 第74-76页 |
| ·溅射实验 | 第76-78页 |
| ·样品测量结果 | 第78-84页 |
| ·结论与探讨 | 第84-86页 |
| 第五章 热扩散V_3Si膜实验 | 第86-101页 |
| 5.l 概述 | 第87-89页 |
| ·溅射V_3SiV超导膜 | 第89-91页 |
| ·蓝宝石基片上热扩散V_3Si膜 | 第91-94页 |
| ·钒基片上热扩散V_3Si膜 | 第94-96页 |
| ·铌和铜基上的热扩散实验 | 第96-98页 |
| ·实验遗留问题 | 第98-101页 |
| 第六章 结论 | 第101-104页 |
| <引文> | 第104-110页 |
| 致谢 | 第110页 |
