摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-11页 |
第1章 绪论 | 第11-25页 |
·芯片毛细管电泳简介 | 第11-15页 |
·概述 | 第11-12页 |
·理论部分 | 第12-15页 |
·芯片材料和制作 | 第15-16页 |
·玻璃、石英芯片 | 第15页 |
·高分子聚合物芯片 | 第15-16页 |
·芯片毛细管电泳联用检测技术 | 第16-21页 |
·光学检测器 | 第17-18页 |
·质谱检测器 | 第18页 |
·电化学检测器 | 第18-21页 |
·PDMS芯片毛细管电泳 | 第21-24页 |
·概述 | 第21-22页 |
·PDMS芯片通道表面改性和修饰 | 第22-24页 |
·芯片毛细管电泳研究展望 | 第24-25页 |
第2章 尿酸和抗坏血酸在修饰PDMS通道中的分离及检测 | 第25-37页 |
·引言 | 第25-26页 |
·实验部分 | 第26-29页 |
·试剂 | 第26页 |
·仪器 | 第26-27页 |
·实验过程 | 第27-29页 |
·PDMS芯片制作及其通道修饰 | 第27页 |
·碳纤维电极的制作 | 第27-28页 |
·PDMS表面修饰层的表征测量 | 第28页 |
·电泳和电化学检测 | 第28页 |
·电渗流的测定 | 第28-29页 |
·结果与讨论 | 第29-36页 |
·PDMS芯片表征 | 第29-31页 |
·Chitosan-DNA修饰芯片上的电渗流 | 第31页 |
·尿酸和抗坏血酸在chitosan-DNA修饰芯片上的电泳分离 | 第31-32页 |
·电泳条件的优化 | 第32-34页 |
·检测电位的选择 | 第32-33页 |
·分离电压的影响 | 第33-34页 |
·Chitosan-DNA修饰芯片的稳定性和重现性 | 第34页 |
·检测范围、检测限及应用 | 第34-36页 |
·结论 | 第36-37页 |
第3章 二氧化钛纳米粒子修饰PDMS芯片分离多巴胺和肾上腺素 | 第37-47页 |
·引言 | 第37-38页 |
·实验部分 | 第38-39页 |
·试剂 | 第38页 |
·仪器 | 第38页 |
·实验过程 | 第38-39页 |
·二氧化钛纳米粒子的合成 | 第39页 |
·分离通道的表面修饰 | 第39页 |
·结果与讨论 | 第39-46页 |
·PDMS芯片表面修饰 | 第39-40页 |
·PDDA-TiO_2 NPs修饰芯片上的电渗流 | 第40-41页 |
·DA和EP在PDDA-TiO_2 NPs修饰芯片上的电泳分离 | 第41-42页 |
·电泳条件的优化 | 第42-45页 |
·检测电位的选择 | 第42-43页 |
·缓冲溶液浓度的影响 | 第43页 |
·分离电压的影响 | 第43-45页 |
·PDDA-TiO_2 NPs修饰芯片的稳定性和重现性 | 第45页 |
·线性范围和检测限 | 第45-46页 |
·结论 | 第46-47页 |
第4章 氨基酸在修饰PDMS芯片上的分离检测 | 第47-54页 |
·引言 | 第47-48页 |
·实验部分 | 第48-50页 |
·试剂 | 第48-49页 |
·PDMS芯片毛细管电泳装置 | 第49页 |
·Cu微盘电极的制作 | 第49-50页 |
·分离通道的修饰 | 第50页 |
·结果与讨论 | 第50-53页 |
·电渗流的测定 | 第50-51页 |
·柱端安培检测 | 第51页 |
·氨基酸在PDDA-TiO_2 NPs修饰芯片上的电泳分离 | 第51-52页 |
·分离电压的影响 | 第52-53页 |
·PDDA-TiO_2 NPs修饰芯片的稳定性和重现性 | 第53页 |
·线性范围 | 第53页 |
·结论 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-66页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第66-67页 |
致谢 | 第67页 |