工业纯铁Cr-N薄膜表面改性
| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-22页 |
| ·物理气相沉积(PVD)薄膜概述 | 第13-17页 |
| ·溅射镀 | 第13-17页 |
| ·蒸发镀 | 第17页 |
| ·离子镀 | 第17页 |
| ·PVD制备Cr-N系列薄膜的性能及应用 | 第17-20页 |
| ·本论文研究目的及内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验方法及原理 | 第22-29页 |
| ·薄膜制备 | 第22页 |
| ·薄膜的表面形貌表征 | 第22-23页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第22页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第22-23页 |
| ·薄膜的结构表征 | 第23页 |
| ·薄膜的成分表征 | 第23-24页 |
| ·薄膜的厚度及内应力表征 | 第24-25页 |
| ·薄膜的机械性能表征 | 第25-26页 |
| ·薄膜的显微硬度 | 第25页 |
| ·薄膜的磨损性能 | 第25-26页 |
| ·薄膜的耐腐蚀性能及孔隙率表征 | 第26-27页 |
| ·高温水蒸汽环境下的热循环腐蚀 | 第26页 |
| ·30g/L NaCl溶液中的电化学腐蚀 | 第26-27页 |
| ·薄膜孔隙率 | 第27页 |
| ·薄膜的膜基结合力表征 | 第27-29页 |
| 第3章 Cr-N单层薄膜制备及性能研究 | 第29-52页 |
| ·不同氮气流量下CrN薄膜的制备及研究 | 第29-42页 |
| ·薄膜制备 | 第29-30页 |
| ·原子力显微镜结果及分析 | 第30-31页 |
| ·光电子能谱结果及分析 | 第31-33页 |
| ·X射线衍射结果及分析 | 第33页 |
| ·残余应力结果及分析 | 第33-34页 |
| ·显微硬度结果及分析 | 第34-35页 |
| ·摩擦磨损结果及分析 | 第35-38页 |
| ·电化学腐蚀结果及分析 | 第38页 |
| ·膜基结合性能结果及分析 | 第38-42页 |
| ·基体偏压对CrN薄膜性能的影响 | 第42-51页 |
| ·薄膜制备 | 第42页 |
| ·原子力显微镜结果及分析 | 第42-43页 |
| ·X射线衍射结果及分析 | 第43-44页 |
| ·残余应力结果及分析 | 第44-45页 |
| ·显微硬度及分析 | 第45-46页 |
| ·摩擦磨损结果及分析 | 第46-48页 |
| ·电化学腐蚀结果及分析 | 第48-49页 |
| ·膜基结合强度结果及分析 | 第49-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第4章 Cr-N多层薄膜制备及性能研究 | 第52-61页 |
| ·Cr-N多层薄膜制备 | 第52-53页 |
| ·表面扫描电镜结果及分析 | 第53页 |
| ·断面扫描电镜形貌结果及分析 | 第53-54页 |
| ·膜基结合强度结果及分析 | 第54-57页 |
| ·电化学腐蚀和孔隙率结果及分析 | 第57-59页 |
| ·高温水蒸汽循环腐蚀结果及分析 | 第59-60页 |
| ·小结 | 第60-61页 |
| 第5章 工业纯铁复合处理表面改性 | 第61-69页 |
| ·多层复合薄膜制备 | 第61页 |
| ·显微硬度结果及分析 | 第61-62页 |
| ·摩擦磨损结果及分析 | 第62-66页 |
| ·电化学腐蚀和孔隙率结果及分析 | 第66-68页 |
| ·小结 | 第68-69页 |
| 结论 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 攻读硕士期间所发表的论文 | 第77-78页 |
