摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第一部分 文献综述 | 第9-26页 |
绪论 | 第9-21页 |
参考文献 | 第21-26页 |
第二部分 研究报告 | 第26-65页 |
第一章 四唑基键合硅胶修饰碳糊电极对阴离子富集作用研究 | 第26-36页 |
1. 引言 | 第26-27页 |
2. 实验部分 | 第27-28页 |
3. 结果与讨论 | 第28-33页 |
4. 结论 | 第33-34页 |
参考文献 | 第34-36页 |
第二章 四唑基键合硅胶修饰碳糊电极催化伏安法测定铜 | 第36-46页 |
1. 引言 | 第36页 |
2. 实验部分 | 第36-37页 |
3. 结果与讨论 | 第37-41页 |
4. 分析方法的评价 | 第41页 |
5. 结论 | 第41-42页 |
参考文献 | 第42-46页 |
第三章 导电聚苯胺膜pH响应的电位诱导零流电位法 | 第46-56页 |
1. 引言 | 第46-47页 |
2. 实验部分 | 第47-48页 |
3. 结果与讨论 | 第48-53页 |
4. 结论 | 第53页 |
参考文献 | 第53-56页 |
第四章 零流电位法用于Pt表面阳极氧化膜生长过程表征 | 第56-65页 |
1. 引言 | 第56页 |
2. 实验部分 | 第56-57页 |
3. 结果与讨论 | 第57-61页 |
4. 结论 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-65页 |
攻读硕士期间完成论文情况 | 第65-66页 |
致谢 | 第66页 |