| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-23页 |
| ·低温等离子体 | 第8-9页 |
| ·辉光放电的性质 | 第9-10页 |
| ·直流辉光放电 | 第9-10页 |
| ·射频辉光放电 | 第10页 |
| ·大气压辉光放电 | 第10-18页 |
| ·大气压放电的应用 | 第10-11页 |
| ·大气压放电的特点 | 第11-12页 |
| ·大气压放电的装置 | 第12-18页 |
| ·等离子体化学气相沉积 | 第18-21页 |
| ·非晶硅薄膜的沉积 | 第19-21页 |
| ·研究方法 | 第21-23页 |
| 2 Ar/SiH_4/H_2辉光放电 | 第23-29页 |
| ·理论模型 | 第23-26页 |
| ·流体方程 | 第23-25页 |
| ·等离子体中的化学反应过程 | 第25-26页 |
| ·数值方法 | 第26-29页 |
| 3 结果与讨论 | 第29-41页 |
| ·气体放电的性质 | 第29-36页 |
| ·氢稀释的影响 | 第36-41页 |
| 结论 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-47页 |
| 附录A 附录内容名称 | 第47-49页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |