摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-16页 |
第1章 绪论 | 第16-39页 |
·课题背景及研究的目的和意义 | 第16-17页 |
·钙钛矿型ABO_3 铁电体的相变及极化特性 | 第17-24页 |
·自发极化与顺电-铁电相变 | 第17-18页 |
·单斜相及ABO_3 铁电体巨压电效应的起源 | 第18-20页 |
·PZT 系相图及存在的主要问题 | 第20-23页 |
·各种铁电相的自发极化方向 | 第23-24页 |
·PZT 铁电薄膜的准同型相变 | 第24-27页 |
·PZT 薄膜中的准同型相变 | 第24页 |
·应力对PZT 系铁电体准同型相变的影响 | 第24-27页 |
·BFO 磁电耦合效应及存在的主要问题 | 第27-32页 |
·BFO 的晶体结构及性能 | 第28-29页 |
·BFO 的磁电耦合效应 | 第29-31页 |
·BFO 薄膜存在的主要问题 | 第31-32页 |
·薄膜织构及残余应力表征 | 第32-37页 |
·薄膜织构X 射线分析方法 | 第32-33页 |
·基于ω扫描XRD 的薄膜织构表征 | 第33-34页 |
·薄膜残余应力表征方法-sin~2ψ法 | 第34-36页 |
·理想织构薄膜的残余应力表征 | 第36-37页 |
·本文的主要研究内容 | 第37-39页 |
第2章 实验材料及方法 | 第39-43页 |
·实验材料 | 第39-40页 |
·薄膜基底材料 | 第39页 |
·PZT 溶胶、BFO 溶胶和Bi_2O_3 溶胶制备材料 | 第39-40页 |
·薄膜制备与工艺参数 | 第40-41页 |
·PZT 薄膜制备与工艺参数 | 第40页 |
·BFO 薄膜和Bi_2O_3 种子层制备与工艺参数 | 第40-41页 |
·Pt 电极制备工艺参数 | 第41页 |
·实验研究方法 | 第41-43页 |
·X 射线衍射分析和小角X 射线散射分析 | 第41页 |
·X 射线ω扫描及ψ扫描分析 | 第41-42页 |
·扫描电镜显微组织观察及拉曼光谱结构分析 | 第42页 |
·铁电性能及介电性能测量 | 第42-43页 |
第3章 PZT 薄膜的混合织构和残余应力 | 第43-59页 |
·引言 | 第43页 |
·基于XRDψ-扫描的薄膜混合织构定量分析方法 | 第43-45页 |
·PZT 薄膜的混合织构 | 第45-52页 |
·PZT 薄膜微观形貌 | 第45-46页 |
·薄膜成份对织构含量的影响 | 第46-48页 |
·薄膜厚度对织构含量的影响 | 第48-51页 |
·PZT 薄膜混合织构形成机制 | 第51-52页 |
·混合织构PZT 薄膜的残余应力分析 | 第52-57页 |
·混合织构薄膜应力分析的基本方法 | 第53页 |
·高度择优取向PZT 薄膜的应力分析 | 第53-55页 |
·薄膜成份对薄膜残余应力的影响 | 第55-57页 |
·本章小结 | 第57-59页 |
第4章 R 相区PZT 薄膜的相组成 | 第59-83页 |
·引言 | 第59页 |
·不同取向薄膜相组成的分析方法 | 第59-61页 |
·PZT58/42 薄膜的相组成 | 第61-67页 |
·薄膜物相及织构 | 第61页 |
·(100)取向晶粒的相组成 | 第61-65页 |
·(111)取向晶粒的相组成 | 第65-67页 |
·相组成拉曼光谱分析 | 第67页 |
·PZT55/45 薄膜的相组成 | 第67-73页 |
·薄膜物相及织构 | 第67-69页 |
·(100)取向晶粒的相组成 | 第69-70页 |
·(111)取向晶粒的相组成 | 第70-72页 |
·相组成拉曼光谱分析 | 第72-73页 |
·升温相变分析 | 第73-79页 |
·PZT 薄膜相变行为机制 | 第79-80页 |
·R 相区PZT 薄膜的铁电性能 | 第80-81页 |
·本章小结 | 第81-83页 |
第5章 T 相区PZT 薄膜的相组成 | 第83-101页 |
·引言 | 第83页 |
·PZT52/48 薄膜的相组成 | 第83-89页 |
·(100)取向晶粒的相组成 | 第83-87页 |
·(111)取向晶粒的相组成 | 第87-89页 |
·PZT51/49 薄膜的相组成 | 第89-96页 |
·PZT51/49 薄膜物相及织构 | 第89-90页 |
·(100)取向晶粒的相组成 | 第90-93页 |
·(111)取向晶粒的相组成 | 第93-96页 |
·T 相区PZT 薄膜的铁电性能 | 第96-97页 |
·成份对PZT 薄膜铁电性能的影响 | 第97-99页 |
·本章小结 | 第99-101页 |
第6章 BFO 薄膜的混合织构及电性能 | 第101-121页 |
·引言 | 第101页 |
·无种子层BFO 薄膜的微观结构 | 第101-103页 |
·薄膜的结晶温度及相组成 | 第101-103页 |
·薄膜的织构 | 第103页 |
·Bi_2O_3 种子层的制备及表征 | 第103-105页 |
·含Bi_2O_3 种子层BFO 薄膜的织构 | 第105-113页 |
·带有Bi_2O_3 种子层的BFO 薄膜微观形貌及相组成 | 第105-107页 |
·Bi_2O_3 种子层对不同厚度BFO 薄膜织构的影响 | 第107-111页 |
·Bi_2O_3 种子层厚度对BFO 薄膜织构的影响 | 第111-112页 |
·Bi_2O_3 种子层诱发BFO 薄膜织构的机制 | 第112-113页 |
·磁场对BFO 薄膜电极化方向的影响 | 第113-114页 |
·Bi_2O_3 种子层对BFO 薄膜电性能影响研究 | 第114-119页 |
·Bi_2O_3 种子层对BFO 薄膜铁电性能的影响 | 第115页 |
·Bi_2O_3 种子层对BFO 薄膜漏电性能的影响 | 第115-118页 |
·Bi_2O_3 种子层对BFO 薄膜介电性能的影响 | 第118-119页 |
·本章小结 | 第119-121页 |
结论 | 第121-123页 |
参考文献 | 第123-135页 |
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第135-137页 |
致谢 | 第137-138页 |
个人简历 | 第138页 |