| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-14页 |
| 第一章 概述 | 第14-24页 |
| ·纳米磁学 | 第14-16页 |
| ·研究现状 | 第16-18页 |
| ·研究动机 | 第18-21页 |
| 参考文献 | 第21-24页 |
| 第二章 理论基础 | 第24-38页 |
| ·对软磁性来源的解释(随机各向异性模型) | 第24-28页 |
| ·磁各向异性理论 | 第28-32页 |
| ·薄膜的形状磁各向异性 | 第28-29页 |
| ·应力磁各向异性 | 第29页 |
| ·磁场感生磁各向异性 | 第29-30页 |
| ·交换磁各向异性 | 第30-31页 |
| ·表面和界面磁各向异性 | 第31-32页 |
| ·关于高频磁性的理论处理 | 第32-37页 |
| ·磁谱的计算 | 第32-34页 |
| ·复数磁导率实部μ~t、共振频率f_r和阻尼系数α的获得 | 第34-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第三章 样品的制备及其性能表征方法 | 第38-59页 |
| ·样品制备 | 第38-44页 |
| ·溅射镀膜原理与方法 | 第38-41页 |
| ·溅射镀膜设备 | 第41-42页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第42-44页 |
| ·薄膜性能表征方法 | 第44-58页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第44-46页 |
| ·高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和选区电子衍射(SEAD) | 第46-47页 |
| ·X射线能量色散谱(EDS) | 第47页 |
| ·电感耦合等离子体(ICP)发射光谱仪 | 第47-50页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第50-52页 |
| ·四探针法 | 第52页 |
| ·台阶仪 | 第52-53页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第53-55页 |
| ·高频磁导率的测量 | 第55-58页 |
| 参考文献 | 第58-59页 |
| 第四章 硬质衬底上FeCoSi/native-oxide多层膜的高频软磁特性 | 第59-82页 |
| ·FeCoSi(d)/native-oxide多层膜的制备 | 第60-61页 |
| ·多层膜与连续膜的对比 | 第61-62页 |
| ·微结构 | 第62-64页 |
| ·[FeCoSi(d)/native-oxide]_N多层膜中自然氧化物的室温铁磁性 | 第64-65页 |
| ·氧化时间对多层膜磁性和电性的影响 | 第65-69页 |
| ·磁性层厚度对多层膜软磁性的影响 | 第69-76页 |
| ·X射线衍射 | 第69-70页 |
| ·静态磁性和电性 | 第70-73页 |
| ·高频特性 | 第73-76页 |
| ·周期数N变化对[FeCoSi(d)/native-oxide]_N磁性的影响 | 第76-80页 |
| ·静态磁性 | 第76-78页 |
| ·高频特性 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-82页 |
| 第五章 柔性衬底上FeCoSi/native-oxide多层膜的高频软磁特性 | 第82-97页 |
| ·柔性衬底选择 | 第82-83页 |
| ·磁性层厚度对多层膜软磁性的影响 | 第83-90页 |
| ·X射线衍射 | 第83-84页 |
| ·饱和磁化强度(4πM_s)和电阻率(p)随磁性层厚度d的变化关系 | 第84-85页 |
| ·氧化层厚度计算 | 第85-86页 |
| ·磁性(H_c和H_k)随磁性层厚度d的变化关系 | 第86-89页 |
| ·不同衬底对材料磁性的影响机理 | 第89-90页 |
| ·高频特性 | 第90-93页 |
| ·性能比较 | 第93-94页 |
| 参考文献 | 第94-97页 |
| 第六章 FeCoB-O颗粒膜的高频软磁特性 | 第97-114页 |
| ·FeCoB-O颗粒膜的制备 | 第97-98页 |
| ·B含量对(Fe_(65)Co_(35))_(100-x)B_x磁性影响 | 第98-102页 |
| ·功率变化对(Fe_(65)Co_(35))_(80.1)B_(19.9)-O颗粒膜磁性的影响 | 第102-104页 |
| ·膜厚变化对FeCoB-O磁性的影响 | 第104-107页 |
| ·氧气流量变化对FeCoB-O颗粒膜磁性的影响 | 第107-113页 |
| ·溅射功率为40W | 第107-111页 |
| ·溅射功率为80W | 第111-113页 |
| 参考文献 | 第113-114页 |
| 第七章 结论 | 第114-117页 |
| 附录 | 第117-120页 |
| 致谢 | 第120页 |
