| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 引言 | 第11-27页 |
| 1.1 研究背景 | 第11页 |
| 1.2 钙钛矿太阳能电池研究现状 | 第11-16页 |
| 1.2.1 钙钛矿太阳能电池发展状况 | 第11-13页 |
| 1.2.2 钙钛矿太阳能电池的工作原理 | 第13-14页 |
| 1.2.3 钙钛矿太阳能电池器件的结构 | 第14-15页 |
| 1.2.4 钙钛矿太阳能电池性能的评价参数 | 第15-16页 |
| 1.3 非铅钙钛矿电池研究现状 | 第16-26页 |
| 1.3.1 Sn基钙钛矿太阳能电池发展状况 | 第17-19页 |
| 1.3.2 Ge基钙钛矿太阳能电池发展状况 | 第19-20页 |
| 1.3.3 Bi基钙钛矿太阳能电池发展状况 | 第20-26页 |
| 1.4 论文选题依据及研究内容 | 第26-27页 |
| 第二章 实验涉及仪器、试剂及表征手段 | 第27-31页 |
| 2.1 实验涉及的仪器设备 | 第27页 |
| 2.2 实验涉及的试剂 | 第27-28页 |
| 2.3 表征方法 | 第28-31页 |
| 2.3.1 物相表征 | 第28-29页 |
| 2.3.2 形貌表征 | 第29页 |
| 2.3.3 组分分析 | 第29页 |
| 2.3.4 光学性能表征 | 第29-30页 |
| 2.3.5 光电性能分析 | 第30-31页 |
| 第三章 A_3Bi_2X_9(A=CH_3NH_3,CH(NH_2)_2,X=Cl,Br,I)薄膜的合成及光电性能研究 | 第31-51页 |
| 3.1 引言 | 第31-32页 |
| 3.2 铋基非铅A3Bi2X9 薄膜的制备 | 第32-34页 |
| 3.2.1 基底材料的处理 | 第32-33页 |
| 3.2.2 电子传输层TiO_2薄膜的制备 | 第33页 |
| 3.2.3 磁控溅射金属Bi薄膜 | 第33页 |
| 3.2.4 气固反应法原位合成A3Bi2X9薄膜 | 第33-34页 |
| 3.3 (CH_3NH_3)_3Bi_2I_9 薄膜的表征 | 第34-44页 |
| 3.3.1 薄膜的物相分析和形貌表征 | 第34-42页 |
| 3.3.2 薄膜的光学性能表征 | 第42-44页 |
| 3.4 (CH_3NH_3)_3Bi_2I_9 薄膜的合成反应机理探究 | 第44-45页 |
| 3.5 (CH_3NH_3)_3Bi_2I_9 薄膜的光电性能测试 | 第45-46页 |
| 3.6 (CH_3NH_3)_3Bi_2I_9 薄膜太阳能电池器件的组装及稳定性研究 | 第46-48页 |
| 3.6.1 薄膜太阳能电池的组装 | 第46-47页 |
| 3.6.2 太阳能电池器件的光电性能测试 | 第47页 |
| 3.6.3 薄膜的稳定性研究 | 第47-48页 |
| 3.7 其他A_3Bi_2X_9(A=CH_3NH_3,CH(NH_2)_2,X=Cl,Br,I)薄膜的合成 | 第48-50页 |
| 3.7.1 (CH_3NH_3)_3Bi_2Cl_9薄膜的合成与形貌表征 | 第48-49页 |
| 3.7.2 (CH_3NH_3)_3Bi_2Br_9薄膜的合成与形貌表征 | 第49页 |
| 3.7.3 (NH_2CH_2NH_2)_3Bi_2I_9薄膜的合成与形貌表征 | 第49-50页 |
| 3.8 本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 Cu BiI_4薄膜的合成及光电性能研究 | 第51-72页 |
| 4.1 引言 | 第51-52页 |
| 4.2 CuBiI_4 薄膜的制备 | 第52-53页 |
| 4.2.1 基底材料的处理 | 第52页 |
| 4.2.2 磁控溅射金属Bi/Cu薄膜 | 第52页 |
| 4.2.3 原位合成CuBiI_4薄膜 | 第52-53页 |
| 4.3 CuBiI_4 薄膜的表征 | 第53-59页 |
| 4.3.1 薄膜的物相及形貌分析 | 第53-56页 |
| 4.3.2 CuBiI_4薄膜的光学性能表征 | 第56-57页 |
| 4.3.3 薄膜的光电性能研究 | 第57-59页 |
| 4.4 CuBiI_4 薄膜的合成反应机理研究 | 第59-60页 |
| 4.5 CuBiI_4 薄膜太阳能电池器件的组装、优化及薄膜稳定性研究 | 第60-71页 |
| 4.5.1 CuBiI_4:HTL本体异质结的制备与表征 | 第60-65页 |
| 4.5.2 太阳能电池器件的组装 | 第65-66页 |
| 4.5.3 不同前驱体薄膜对器件性能的影响 | 第66-69页 |
| 4.5.4 不同的p型半导体对器件性能的影响 | 第69-70页 |
| 4.5.5 CuBiI_4薄膜的稳定性研究 | 第70-71页 |
| 4.6 本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 结论与展望 | 第72-74页 |
| 5.1 全文总结 | 第72-73页 |
| 5.2 后续工作展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-81页 |
| 硕士期间研究成果 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
