| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4页 |
| 第1章 文献综述 | 第9-23页 |
| 1.1 硼同位素的概述 | 第9页 |
| 1.2 硼同位素分离的意义 | 第9-12页 |
| 1.2.1 高丰度硼-10 在核工业的应用 | 第10页 |
| 1.2.2 高丰度硼-10 在现代工业的应用 | 第10-11页 |
| 1.2.3 高丰度硼-10 在军事工业的应用 | 第11页 |
| 1.2.4 高丰度硼-10 在医学领域的应用 | 第11页 |
| 1.2.5 硼-11 在工业上的应用 | 第11-12页 |
| 1.3 硼同位素分离方法的研究进展 | 第12-16页 |
| 1.3.1 化学交换精馏法 | 第12-14页 |
| 1.3.2 激光分离法 | 第14-15页 |
| 1.3.3 吸附分离法 | 第15-16页 |
| 1.4 离子交换色谱法 | 第16-19页 |
| 1.4.1 离子交换色谱法分离硼同位素的原理 | 第16-17页 |
| 1.4.2 离子交换色谱法分离硼同位素的研究进展 | 第17-19页 |
| 1.5 硼酸溶液浓度测定方法 | 第19-21页 |
| 1.5.1 分光光度法 | 第19页 |
| 1.5.2 荧光光度法 | 第19-20页 |
| 1.5.3 原子发射光谱和原子吸收光谱法 | 第20页 |
| 1.5.4 酸碱滴定法 | 第20-21页 |
| 1.5.5 诱导耦合等离子体法 | 第21页 |
| 1.6 硼溶液丰度测定方法 | 第21-22页 |
| 1.6.1 热电离质谱法 | 第21页 |
| 1.6.2 二次离子质谱法 | 第21页 |
| 1.6.3 电感耦合等离子体质谱法 | 第21-22页 |
| 1.7 本文研究内容 | 第22-23页 |
| 第2章 邻苯二酚修饰树脂的合成和表征 | 第23-29页 |
| 2.1 实验试剂及仪器 | 第23-24页 |
| 2.2 邻苯二酚修饰树脂的合成 | 第24-26页 |
| 2.3 邻苯二酚修饰树脂的表征 | 第26-27页 |
| 2.4 本章小结 | 第27-29页 |
| 第3章 硼同位素静态分离实验 | 第29-43页 |
| 3.1 硼酸溶液浓度测定方法 | 第29-30页 |
| 3.1.1 实验试剂及仪器 | 第29-30页 |
| 3.1.2 实验步骤 | 第30页 |
| 3.2 邻苯二酚修饰树脂的预处理 | 第30-31页 |
| 3.3 静态吸附动力学测定实验 | 第31-35页 |
| 3.3.1 实验试剂及仪器 | 第31-32页 |
| 3.3.2 实验步骤 | 第32页 |
| 3.3.3 实验结果与讨论 | 第32-33页 |
| 3.3.4 吸附动力学模型研究 | 第33-35页 |
| 3.4 吸附等温线测定实验 | 第35-38页 |
| 3.4.1 实验试剂及仪器 | 第35页 |
| 3.4.2 实验步骤 | 第35-36页 |
| 3.4.3 实验结果与讨论 | 第36页 |
| 3.4.4 吸附等温线模型研究 | 第36-38页 |
| 3.5 分离因子测定实验 | 第38-39页 |
| 3.6 硼同位素分离机理 | 第39-40页 |
| 3.7 本章小结 | 第40-43页 |
| 第4章 硼同位素动态分离实验 | 第43-49页 |
| 4.1 空隙率测定实验 | 第43-44页 |
| 4.2 单柱实验 | 第44-48页 |
| 4.2.1 实验设备 | 第44-45页 |
| 4.2.2 实验步骤 | 第45页 |
| 4.2.3 穿透曲线 | 第45-46页 |
| 4.2.4 再生操作 | 第46-48页 |
| 4.3 本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 色谱法分离硼同位素过程的模拟优化 | 第49-63页 |
| 5.1 色谱模型的建立 | 第49-50页 |
| 5.2 Aspen Chromatography模拟简介 | 第50-53页 |
| 5.3 响应面法简介 | 第53-55页 |
| 5.3.1 响应面法的原理和特点 | 第53-54页 |
| 5.3.2 响应面法的试验设计方法 | 第54-55页 |
| 5.4 构建模型及检验 | 第55-59页 |
| 5.5 分离过程的模拟优化 | 第59-62页 |
| 5.5.1 进料浓度和流速对分离结果的影响 | 第59-60页 |
| 5.5.2 进料浓度和色谱柱长度对分离结果的影响 | 第60页 |
| 5.5.3 进料流速和色谱柱长度对分离结果的影响 | 第60-61页 |
| 5.5.4 模拟优化的结果 | 第61-62页 |
| 5.6 本章小结 | 第62-63页 |
| 第6章 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73页 |