摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第10-22页 |
1.1 课题背景 | 第10-11页 |
1.2 原子氧(AO) | 第11-12页 |
1.2.1 原子氧的形成 | 第11-12页 |
1.2.2 原子氧的危害 | 第12页 |
1.3 原子氧的防护 | 第12-19页 |
1.3.1 包覆法 | 第13页 |
1.3.2 抗原子氧新材料 | 第13-16页 |
1.3.3 原子氧防护涂层 | 第16-19页 |
1.4 选题依据及研究内容 | 第19-22页 |
2.实验原料与测试手段 | 第22-26页 |
2.1 主要实验原料 | 第22-23页 |
2.2 表征技术 | 第23-26页 |
2.2.1 透光率测试 | 第23页 |
2.2.2 接触角测试 | 第23页 |
2.2.3 抗拉强度测试 | 第23页 |
2.2.4 表面形貌 | 第23-24页 |
2.2.5 分子结构 | 第24-26页 |
3 聚酰亚胺薄膜表面改性处理方法研究 | 第26-38页 |
3.1 引言 | 第26页 |
3.2 实验部分 | 第26-27页 |
3.2.1 聚酰亚胺基材预处理 | 第26-27页 |
3.2.2 酸碱改性处理 | 第27页 |
3.2.3 溶胶及涂层制备 | 第27页 |
3.3 结果与讨论 | 第27-37页 |
3.3.1 碱类型的选择 | 第27-32页 |
3.3.2 水热改性 | 第32-34页 |
3.3.3 水热条件下最佳碱浓度、温度和水热时间的确定 | 第34-36页 |
3.3.4 形貌分析 | 第36-37页 |
3.4 结论 | 第37-38页 |
4 探究溶胶成膜机理及实验条件对镀膜效果的影响 | 第38-50页 |
4.1 引言 | 第38页 |
4.2 实验部分 | 第38-40页 |
4.2.1 PI薄膜表面处理 | 第38-39页 |
4.2.2 溶胶的配制 | 第39-40页 |
4.2.3 涂层的制备 | 第40页 |
4.3 结果与讨论 | 第40-48页 |
4.3.1 薄膜表面处理方式对SiO_2涂层的影响 | 第40-45页 |
4.3.2 溶胶的配制方式、浓度及镀膜层数对SiO_2涂层防护效果的影响 | 第45-48页 |
4.4 小结 | 第48-50页 |
5 探索消除内应力涂层的制备方法及形成机理研究 | 第50-66页 |
5.1 引言 | 第50页 |
5.2 实验部分 | 第50-52页 |
5.2.1 PI基材处理 | 第50-51页 |
5.2.2 涂层的制备 | 第51页 |
5.2.3 水汽实验 | 第51页 |
5.2.4 温度交变实验 | 第51页 |
5.2.5 弯曲实验 | 第51-52页 |
5.2.6 盐水实验 | 第52页 |
5.2.7 原子氧辐照实验 | 第52页 |
5.3 结果与讨论 | 第52-64页 |
5.3.1 硅烷偶联剂处理PI样品显微镜 | 第52-53页 |
5.3.2 硅烷偶联剂处理PI样品透光率 | 第53-54页 |
5.3.3 硅烷偶联剂处理PI样品接触角 | 第54-55页 |
5.3.4 镀膜样品的显微镜 | 第55-57页 |
5.3.5 褶皱涂层的SEM图 | 第57页 |
5.3.6 褶皱涂层的水接触角 | 第57-58页 |
5.3.7 褶皱涂层的透光率 | 第58-59页 |
5.3.8 抗拉强度测试 | 第59页 |
5.3.9 评价试验后褶皱涂层表面形貌分析 | 第59-61页 |
5.3.10 原子氧辐照试验 | 第61-64页 |
5.4 小结 | 第64-66页 |
6 聚酰亚胺薄膜表面金属化制备与表征 | 第66-90页 |
6.1 引言 | 第66页 |
6.2 实验部分 | 第66-68页 |
6.2.1 PI基材处理 | 第66-67页 |
6.2.2 磁控溅射镀膜 | 第67-68页 |
6.2.3 耐水性测试 | 第68页 |
6.3 结果与讨论 | 第68-89页 |
6.3.1 不同硅烷偶联剂处理后PI的 SEM | 第68-69页 |
6.3.2 不同硅烷偶联剂处理后PI的水接触角 | 第69-70页 |
6.3.3 镀膜后PI测试 | 第70-85页 |
6.3.4 耐水性实验后PI测试 | 第85-89页 |
6.4 小结 | 第89-90页 |
7 结论与展望 | 第90-92页 |
7.1 结论 | 第90-91页 |
7.2 展望 | 第91-92页 |
参考文献 | 第92-102页 |
致谢 | 第102-104页 |
作者简介 | 第104-106页 |
攻读硕士学位期间完成的学术论文 | 第106-108页 |
攻读硕士学位期间参与项目 | 第108-110页 |