MZO（掺钼氧化锌）导电薄膜的制备及其稳定性的研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 透明导电氧化物薄膜的概述 | 第9-10页 |
| 1.2 透明导电氧化物薄膜的种类及研究现状 | 第10-14页 |
| 1.2.1 氧化锌(ZnO)基薄膜 | 第10-12页 |
| 1.2.2 三氧化二铟(In_2O_3)基薄膜 | 第12-13页 |
| 1.2.3 二氧化锡(SnO_2)基薄膜 | 第13-14页 |
| 1.2.4 其它种类的透明导电薄膜 | 第14页 |
| 1.3 透明导电氧化物薄膜的制备方法 | 第14-15页 |
| 1.4 透明导电氧化物薄膜的应用 | 第15-16页 |
| 1.5 本课题的研究意义及主要内容 | 第16-19页 |
| 1.5.1 本课题的研究意义 | 第16-17页 |
| 1.5.2 本课题的主要内容 | 第17-19页 |
| 第二章 实验设备、样品制备过程及表征方法 | 第19-27页 |
| 2.1 实验设备 | 第19-22页 |
| 2.1.1 磁控溅射仪 | 第19-21页 |
| 2.1.2 管式退火炉 | 第21-22页 |
| 2.2 样品制备过程 | 第22页 |
| 2.3 表征方法 | 第22-27页 |
| 2.3.1 X射线衍射仪 | 第22-23页 |
| 2.3.2 X射线光电子能谱 | 第23页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜 | 第23-24页 |
| 2.3.4 原子力显微镜 | 第24页 |
| 2.3.5 霍尔效应测试系统 | 第24-25页 |
| 2.3.6 紫外可见分光光度计 | 第25页 |
| 2.3.7 台阶仪 | 第25-27页 |
| 第三章 MZO薄膜的制备及性能的研究 | 第27-47页 |
| 3.1 氩气压对薄膜性能的影响 | 第27-37页 |
| 3.1.1 实验过程 | 第27-29页 |
| 3.1.2 MZO薄膜的化学性质 | 第29-31页 |
| 3.1.3 氩气压对MZO薄膜结构性能的影响 | 第31-34页 |
| 3.1.4 氩气压对MZO薄膜电学性能的影响 | 第34-35页 |
| 3.1.5 氩气压对MZO薄膜光学性能的影响 | 第35-37页 |
| 3.2 Mo靶位置对MZO薄膜性能的影响 | 第37-42页 |
| 3.2.1 实验过程 | 第37-38页 |
| 3.2.2 Mo靶位置对MZO薄膜结构性能的影响 | 第38-40页 |
| 3.2.3 Mo靶位置对MZO薄膜电学性能的影响 | 第40-41页 |
| 3.2.4 Mo靶位置对MZO薄膜光学性能的影响 | 第41-42页 |
| 3.3 衬底对MZO薄膜性能的影响 | 第42-46页 |
| 3.3.1 实验过程 | 第42-43页 |
| 3.3.2 衬底对MZO薄膜结构性能的影响 | 第43-44页 |
| 3.3.3 衬底对MZO薄膜电学性能的影响 | 第44-45页 |
| 3.3.4 衬底对MZO薄膜光学性能的影响 | 第45-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 MZO薄膜稳定性能的研究 | 第47-55页 |
| 4.1 湿度对MZO薄膜稳定性的影响 | 第47-50页 |
| 4.1.1 实验过程 | 第47页 |
| 4.1.2 湿度对MZO薄膜结构性能的影响 | 第47-49页 |
| 4.1.3 湿度对MZO薄膜电学性能的影响 | 第49页 |
| 4.1.4 湿度对MZO薄膜光学性能的影响 | 第49-50页 |
| 4.2 温度变化对MZO薄膜稳定性能的影响 | 第50-54页 |
| 4.2.1 实验过程 | 第50页 |
| 4.2.2 温度变化对MZO薄膜结构性能的影响 | 第50-52页 |
| 4.2.3 温度变化对MZO薄膜电学性能的影响 | 第52-53页 |
| 4.2.4 温度变化对MZO薄膜光学性能的影响 | 第53-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 攻读学位期间所取得的相关科研成果 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
