| 中文摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 中文文摘 | 第5-10页 |
| 绪论 | 第10-24页 |
| 0.1 TiO_2概述 | 第10-17页 |
| 0.1.1 TiO_2结构及性质 | 第10页 |
| 0.1.2 TiO_2光催化及其机理 | 第10-12页 |
| 0.1.3 TiO_2光催化性能的影响因素 | 第12-15页 |
| 0.1.4 TiO_2光催化剂的改性方法 | 第15-16页 |
| 0.1.5 TiO_2光催化的应用 | 第16-17页 |
| 0.2 分子印迹技术概括 | 第17-21页 |
| 0.2.1 分子印迹技术基本原理 | 第17-18页 |
| 0.2.2 分子印迹聚合物的类型及制备 | 第18-20页 |
| 0.2.3 分子印迹聚合物的应用 | 第20-21页 |
| 0.3 论文的立题依据,研究思路与创新点 | 第21-24页 |
| 0.3.1 立题依据 | 第21页 |
| 0.3.2 研究思路 | 第21-22页 |
| 0.3.3 创新点 | 第22-24页 |
| 第1章 二氧化钛的包覆改性 | 第24-42页 |
| 1.1 引言 | 第24-25页 |
| 1.2 实验部分 | 第25-27页 |
| 1.2.1 实验试剂与仪器 | 第25页 |
| 1.2.2 聚邻苯二胺改性的二氧化钛的制备 | 第25-26页 |
| 1.2.3 石墨烯改性的二氧化钛的制备 | 第26-27页 |
| 1.3. 结果与讨论 | 第27-41页 |
| 1.3.1 聚邻苯二胺改性二氧化钛 | 第27-37页 |
| 1.3.2 石墨烯改性二氧化钛 | 第37-41页 |
| 1.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第2章 表面分子印迹型二氧化钛的制备与性能研究 | 第42-54页 |
| 2.1 引言 | 第42页 |
| 2.2 实验部分 | 第42-44页 |
| 2.2.1 实验试剂及仪器 | 第42-43页 |
| 2.2.2 表面分子印迹型二氧化钛的制备 | 第43-44页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第44-52页 |
| 2.3.1 表面分子印迹型二氧化钛的制备路线 | 第44-45页 |
| 2.3.2 印迹条件的选择 | 第45-47页 |
| 2.3.3 表面分子印迹型二氧化钛的结构表征 | 第47-51页 |
| 2.3.4 表面分子印迹型二氧化钛的性能测定 | 第51-52页 |
| 2.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 第3章 改性二氧化钛光催化性能研究 | 第54-68页 |
| 3.1 引言 | 第54-55页 |
| 3.2 实验部分 | 第55-56页 |
| 3.2.1 实验仪器与试剂 | 第55页 |
| 3.2.2 光催化实验方法 | 第55页 |
| 3.2.3 有机硅改性的二氧化钛薄膜光降解硝基苯 | 第55页 |
| 3.2.4 有机硅改性的二氧化钛光降解对羟基二苯醚 | 第55-56页 |
| 3.2.5 聚邻苯二胺改性的二氧化钛光降解对羟基二苯醚 | 第56页 |
| 3.2.6 石墨烯改性的二氧化钛光降解对羟基二苯醚 | 第56页 |
| 3.2.7 表面分子印迹型的二氧化钛光降解对羟基二苯醚 | 第56页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第56-66页 |
| 3.3.1 有机硅改性的二氧化钛薄膜光降解硝基苯 | 第56-57页 |
| 3.3.2 有机硅改性的二氧化钛光降解对羟基二苯醚 | 第57-65页 |
| 3.3.3 聚邻苯二胺改性的二氧化钛光降解对羟基二苯醚 | 第65页 |
| 3.3.4 石墨烯改性的二氧化钛光降解对羟基二苯醚 | 第65-66页 |
| 3.3.5 分子印迹型的二氧化钛光降解对羟基二苯醚 | 第66页 |
| 3.4 本章小结 | 第66-68页 |
| 第4章 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 攻读学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第76-78页 |
| 致谢 | 第78-80页 |
| 个人简历 | 第80-84页 |
