| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-31页 |
| 1.1 研究背景 | 第12-13页 |
| 1.2 半导体光催化技术及其应用 | 第13-20页 |
| 1.2.1 半导体光催化技术简介 | 第13页 |
| 1.2.2 半导体光催化基本原理 | 第13-15页 |
| 1.2.3 影响半导体光催化剂活性的主要因素 | 第15-16页 |
| 1.2.4 半导体光催化技术的应用 | 第16-20页 |
| 1.3 改善半导体光催化剂活性及拓宽其光谱响应范围的研究 | 第20-24页 |
| 1.3.1 染料光敏化 | 第20-21页 |
| 1.3.2 金属和非金属离子掺杂 | 第21-22页 |
| 1.3.3 半导体复合 | 第22-23页 |
| 1.3.4 金属沉积 | 第23-24页 |
| 1.4 铋系半导体光催化材料 | 第24-29页 |
| 1.4.1 单元铋系氧化物Bi2O3 | 第25-26页 |
| 1.4.2 二元铋系复合氧化物 | 第26-28页 |
| 1.4.3 多元铋系氧化物 | 第28-29页 |
| 1.5 选题依据及研究内容 | 第29页 |
| 1.5.1 选题依据 | 第29页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第29-31页 |
| 第二章 实验材料与分析方法 | 第31-40页 |
| 2.1 实验药品与仪器分析 | 第31-33页 |
| 2.1.1 主要化学试剂 | 第31-32页 |
| 2.1.2 主要实验仪器 | 第32-33页 |
| 2.2 主要分析、表征手段 | 第33-36页 |
| 2.2.1 X射线衍射（XRD）分析 | 第33页 |
| 2.2.2 紫外可见（UV Vis）光谱分析 | 第33-34页 |
| 2.2.3 表面水接触角分析 | 第34页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第34-35页 |
| 2.2.5 BET比表面积分析 | 第35页 |
| 2.2.6 热重（TG）分析 | 第35页 |
| 2.2.7 傅立叶红外光谱（FTIR）分析 | 第35-36页 |
| 2.2.8 光致发光光谱（PL）分析 | 第36页 |
| 2.2.9 扫描电镜（SEM）分析 | 第36页 |
| 2.3 薄膜的光催化性能评价 | 第36-39页 |
| 2.3.1 以甲基橙为模型污染物 | 第36-38页 |
| 2.3.2 以硬脂酸为污染物模型 | 第38-39页 |
| 2.4 活性反应组分分析 | 第39-40页 |
| 第三章 CuBi_2O_3薄膜的制备及其自洁净性能研究 | 第40-51页 |
| 3.1 前言 | 第40-41页 |
| 3.2 CuBi_2O_3薄膜的制备 | 第41-42页 |
| 3.2.1 玻璃基片的清洗 | 第41页 |
| 3.2.2 CuBi_2O_3薄膜的制备 | 第41-42页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第42-50页 |
| 3.3.1 薄膜的XRD分析 | 第42-43页 |
| 3.3.2 薄膜的XPS分析 | 第43-45页 |
| 3.3.3 薄膜的透光性分析 | 第45页 |
| 3.3.4 薄膜的光催化性能评价 | 第45-49页 |
| 3.3.5 薄膜的光催化机理分析及PL光谱 | 第49-50页 |
| 3.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 介孔SiO_2/CuBi_2O_3分层薄膜的制备及其自洁净性能研究 | 第51-60页 |
| 4.1 前言 | 第51页 |
| 4.2 介孔SiO_2/CuBi_2O_3分层薄膜的制备 | 第51-52页 |
| 4.2.1 介孔SiO_2薄膜的制备 | 第51-52页 |
| 4.2.2 介孔SiO_2/CuBi_2O_3分层薄膜的制备 | 第52页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第52-59页 |
| 4.3.1 介孔SiO_2薄膜的制备条件优化 | 第52-54页 |
| 4.3.2 薄膜的XRD分析 | 第54-55页 |
| 4.3.3 薄膜的透光性分析 | 第55-56页 |
| 4.3.4 薄膜的亲水性研究 | 第56-57页 |
| 4.3.5 薄膜的光催化性能评价 | 第57-58页 |
| 4.3.6 薄膜的稳定性及回收利用 | 第58-59页 |
| 4.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 gC_3N_4/Bi_2O_2CO_3薄膜的制备及其光催化性能研究 | 第60-75页 |
| 5.1 前言 | 第60-61页 |
| 5.2 gC_3N_4/Bi_2O_2CO_3复合薄膜的制备 | 第61-62页 |
| 5.2.1 gC_3N_4粉末的制备 | 第61页 |
| 5.2.2 Bi2O3粉末的制备 | 第61页 |
| 5.2.3 Bi_2O_2CO_3纳米片的制备 | 第61页 |
| 5.2.4 gC_3N_4/Bi_2O_2CO_3的制备 | 第61页 |
| 5.2.5 gC_3N_4/Bi_2O_2CO_3复合薄膜的制备 | 第61-62页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第62-74页 |
| 5.3.1 晶相结构分析 | 第62-63页 |
| 5.3.2 SEM及TEM分析 | 第63-64页 |
| 5.3.3 FTIR分析 | 第64-65页 |
| 5.3.4 XPS分析 | 第65-67页 |
| 5.3.5 UV-vis漫反射光谱分析 | 第67-69页 |
| 5.3.6 薄膜的光催化活性评价 | 第69-71页 |
| 5.3.7 活性物质检测及光催化机理探讨 | 第71-74页 |
| 5.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 第六章 gC_3N_4/BiOCl薄膜的制备及其光催化性能研究 | 第75-87页 |
| 6.1 前言 | 第75页 |
| 6.2 gC_3N_4/BiOCl薄膜的制备 | 第75-77页 |
| 6.2.1 gC_3N_4粉末的制备 | 第75-76页 |
| 6.2.2 BiOCl粉末的制备 | 第76页 |
| 6.2.3 gC_3N_4/BiOCl的制备 | 第76页 |
| 6.2.4 gC_3N_4/BiOCl复合薄膜的制备 | 第76-77页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第77-86页 |
| 6.3.1 热重分析 | 第77页 |
| 6.3.2 SEM及TEM分析 | 第77-79页 |
| 6.3.3 晶相结构分析 | 第79-80页 |
| 6.3.4 FTIR分析 | 第80页 |
| 6.3.5 XPS分析 | 第80-82页 |
| 6.3.6 UV-vis漫反射光谱分析 | 第82-83页 |
| 6.3.7 薄膜的光催化评价 | 第83-85页 |
| 6.3.8 光催化剂的机理探讨 | 第85-86页 |
| 6.4 本章小结 | 第86-87页 |
| 结论与展望 | 第87-89页 |
| 1 结论 | 第87-88页 |
| 2 展望 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-100页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第100-102页 |
| 致谢 | 第102-103页 |
| 附件 | 第103页 |
