| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-23页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第13-14页 |
| 1.2 压电材料及其主要参数 | 第14-17页 |
| 1.2.1 压电陶瓷 | 第15页 |
| 1.2.2 压电薄膜 | 第15-16页 |
| 1.2.3 压电材料特征参数 | 第16-17页 |
| 1.3 压电陶瓷及薄膜纵向应变常数测量方法 | 第17-21页 |
| 1.3.1 准静态法 | 第18-19页 |
| 1.3.2 气腔压力法 | 第19-20页 |
| 1.3.3 激光干涉法 | 第20-21页 |
| 1.4 课题研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 激光干涉法测量纵向应变常数系统设计与实现 | 第23-43页 |
| 2.1 激光多普勒干涉测振原理 | 第23-26页 |
| 2.2 激光干涉测量光路的实现 | 第26-36页 |
| 2.2.1 四光路平衡零差干涉测振法 | 第27-32页 |
| 2.2.2 双光路外差干涉测振法 | 第32-36页 |
| 2.3 原始多普勒信号解调方法 | 第36-40页 |
| 2.3.1 反正切函数法解调技术 | 第36-38页 |
| 2.3.2 微分叉乘法解调技术 | 第38-40页 |
| 2.4 压电材料纵向应变常数测量系统建立与实验设计 | 第40-42页 |
| 2.5 本章小结 | 第42-43页 |
| 第三章 激光外差干涉法测量系统影响因素研究 | 第43-69页 |
| 3.1 压电陶瓷振动位移特性曲线 | 第43-45页 |
| 3.2 压电陶瓷纵向应变常数影响因素探讨 | 第45-62页 |
| 3.2.1 固定方式对纵向应变常数的影响 | 第46-51页 |
| 3.2.2 激励频率对纵向应变常数的影响 | 第51-53页 |
| 3.2.3 激励场强对纵向应变常数的影响 | 第53-56页 |
| 3.2.4 压电陶瓷表面纵向应变常数分布的影响 | 第56-60页 |
| 3.2.5 温度对纵向应变常数的影响 | 第60-61页 |
| 3.2.6 测试时间对纵向应变常数的影响 | 第61-62页 |
| 3.3 压电薄膜纵向应变常数影响因素的探讨 | 第62-67页 |
| 3.3.1 压电薄膜位移特性曲线 | 第63-64页 |
| 3.3.2 激励频率对纵向应变常数的影响 | 第64-66页 |
| 3.3.3 激励场强对纵向应变常数的影响 | 第66-67页 |
| 3.4 本章小结 | 第67-69页 |
| 第四章 测量结果与纵向应变常数一致性探讨 | 第69-77页 |
| 4.1 激光外差干涉法测量结果不确定度分析 | 第69-71页 |
| 4.2 正逆压电效应下纵向应变常数一致性探讨 | 第71-75页 |
| 4.2.1 准静态测量结果和影响因素 | 第71-72页 |
| 4.2.2 正逆压电效应下纵向应变常数一致性探讨 | 第72-75页 |
| 4.3 本章小结 | 第75-77页 |
| 第五章 总结 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-83页 |
| 致谢 | 第83-85页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第85-87页 |
| 作者和导师简介 | 第87-88页 |
| 附件 | 第88-89页 |