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金刚石膜制备中开裂影响因素分析及工艺优化

摘要第6-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第11-20页
    1.1 金刚石的结构与性质第11-12页
    1.2 金刚石膜概述第12-15页
        1.2.1 金刚石膜的性能及应用第12-13页
        1.2.2 金刚石膜制备方法简介第13-14页
        1.2.3 金刚石膜的常用表征方法第14-15页
    1.3 研究现状第15-18页
        1.3.1 电磁流体的流动传热研究现状第15-17页
        1.3.2 金刚石膜残余应力的研究现状第17页
        1.3.3 已有研究的不足第17-18页
    1.4 本文的研究意义及内容第18-20页
第2章 磁控直流等离子体炬的传热与流动的数值模拟第20-29页
    2.1 磁流体动力学模型第22-24页
    2.2 计算区域、边界条件及软件开发第24-26页
    2.3 数值模拟结果及分析第26-28页
    2.4 本章小结第28-29页
第3章 等离子体炬与炬外沉积腔的数值模拟第29-34页
    3.1 基本假设及控制的方程组第29-30页
    3.2 计算区域、模拟工况及边界条件第30-31页
    3.3 数值模拟结果及分析第31-32页
    3.4 本章小结第32-34页
第4章 金刚石膜残余应力场的仿真计算及开裂破坏研究第34-42页
    4.1 瞬态热—力耦合模型第34-35页
    4.2 计算区域、物性参数与边界条件第35-37页
    4.3 数值模拟结果第37-39页
    4.4 金刚石膜的开裂破坏研究第39-40页
    4.5 本章小结第40-42页
第5章 影响金刚石膜开裂的工艺参数及分析研究第42-68页
    5.1 等离子体炬的工艺参数第42-58页
        5.1.1 外磁场对等离子体炬流动与传热特性的影响第42-47页
        5.1.2 入口气流量对等离子炬流动与传热特性的影响第47-49页
        5.1.3 阴极电势对等离子炬流动与传热特性的影响第49-51页
        5.1.4 不同阴极结构的等离子体炬的对比分析第51-54页
        5.1.5 不同阳极结构的等离子体炬的对比分析第54-58页
        5.1.6 温度场方程添加项对等离子炬炬出口温度的影响第58页
    5.2 炬外沉积腔的工艺参数第58-60页
        5.2.1 炬出口到沉积台的距离对金刚石膜表面温度的影响第59页
        5.2.2 钼基体半径对金刚石膜表面温度的影响第59-60页
    5.3 膜/基系统自身的工艺参数第60-64页
        5.3.1 钼基体半径对金刚石膜残余应力的影响第60-61页
        5.3.2 膜/基界面形貌对金刚石膜残余应力的影响第61-64页
    5.4 参数分析与工艺优化第64-66页
    5.5 本章小结第66-68页
第6章 磁控直流等离子体炬的三维数值模拟第68-73页
    6.1 三维磁流体动力学模型第68-70页
    6.2 计算区域、工况条件及边界条件第70页
    6.3 模拟结果及分析第70-72页
    6.4 本章小结第72-73页
结论第73-76页
致谢第76-77页
参考文献第77-82页
攻读硕士学位期间发表的论文及参加的科研项目第82页

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