| 中文摘要 | 第9-11页 |
| ABSTRACT | 第11-12页 |
| 符号说明 | 第13-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-30页 |
| 1.1 引言 | 第14页 |
| 1.2 氟表面活性剂概述 | 第14-21页 |
| 1.2.1 氟表面活性剂 | 第14-15页 |
| 1.2.2 氟表面活性剂特点及应用 | 第15-17页 |
| 1.2.3 氟表面活性剂的研究现状 | 第17-21页 |
| 1.3 有机硅表面活性剂概述 | 第21-23页 |
| 1.3.1 有机硅表面活性剂及其特征 | 第21-22页 |
| 1.3.2 有机硅表面活性剂研究现状 | 第22-23页 |
| 1.4 氟硅类表面活性剂概述 | 第23-28页 |
| 1.4.1 氟硅表面活性剂 | 第24-25页 |
| 1.4.2 氟硅表面活性剂的应用 | 第25-26页 |
| 1.4.3 氟硅表面活性剂研究现状 | 第26-28页 |
| 1.5 本课题的研究意义、创新性及主要内容 | 第28-30页 |
| 第二章 全氟烷基四硅氧表面活性剂的制备及其在有机溶剂中的性能研究 | 第30-50页 |
| 2.1 引言 | 第30-31页 |
| 2.2 实验部分 | 第31-36页 |
| 2.2.1 实验原料 | 第31-32页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第32-33页 |
| 2.2.3 实验过程 | 第33-35页 |
| 2.2.4 热力学参数计算 | 第35-36页 |
| 2.3 实验结果与分析讨论 | 第36-47页 |
| 2.3.1 全氟辛基四硅氧烷在不同溶剂中的性质研究 | 第36-42页 |
| 2.3.2 全氟癸基四硅氧烷在有机溶剂中的性质研究 | 第42-45页 |
| 2.3.3 全氟烷基四硅氧烷对易挥发溶剂挥发抑制作用的研究 | 第45-46页 |
| 2.3.4 全氟烷基四硅氧烷对甲醛挥发抑制作用的研究 | 第46-47页 |
| 2.4 本章小结 | 第47-50页 |
| 第三章 全氟辛酰胺氟硅表面活性剂的制备及其在有机溶剂中的性能研究 | 第50-72页 |
| 3.1 引言 | 第50-51页 |
| 3.2 实验部分 | 第51-57页 |
| 3.2.1 实验原料 | 第51-52页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第52页 |
| 3.2.3 合成过程 | 第52-57页 |
| 3.3 酰胺反应实验条件的选择 | 第57-60页 |
| 3.3.1 氨基硅油与全氟辛酸反应机理 | 第57-58页 |
| 3.3.2 全氟辛酸和氨基硅油反应条件 | 第58-60页 |
| 3.4 实验结果与分析讨论 | 第60-69页 |
| 3.4.1 表面张力曲线分析和CMC值的确定 | 第61-63页 |
| 3.4.2 温度对AMPFS-10表面活性剂体系表面张力的影响 | 第63-64页 |
| 3.4.3 AMPFS-10在DMF中聚集过程的热力学分析 | 第64-65页 |
| 3.4.4 AMPFS-10在DMF中聚集过程中的焓—熵补偿 | 第65-66页 |
| 3.4.5 -Si-O-Si-链长对AMPFS表面活性的影响 | 第66-68页 |
| 3.4.6 AMPFS对易挥发溶剂挥发抑制作用的研究 | 第68-69页 |
| 3.5 本章小结 | 第69-72页 |
| 第四章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-82页 |
| 致谢 | 第82-84页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第84页 |
