| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 纳米材料研究概况 | 第11-15页 |
| 1.1.1 纳米材料的基本概念 | 第11-12页 |
| 1.1.2 纳米材料的特殊性能 | 第12-13页 |
| 1.1.3 纳米薄膜材料及其性能研究 | 第13-15页 |
| 1.2 电化学方法制备纳米材料 | 第15-23页 |
| 1.2.1 金属电沉积及其电结晶原理 | 第16-19页 |
| 1.2.2 电沉积条件对镀层性能的影响 | 第19-20页 |
| 1.2.3 电沉积纳米材料的制备方法 | 第20-23页 |
| 1.4 本文的研究目的及内容 | 第23-24页 |
| 1.5 参考文献 | 第24-27页 |
| 第二章 实验方法及原理 | 第27-36页 |
| 2.1 电沉积的实验装置及方法 | 第27-28页 |
| 2.2 电化学测试方法介绍 | 第28-30页 |
| 2.3 X 射线衍射测定晶粒尺寸的方法 | 第30-32页 |
| 2.3.1 X 射线线宽理论 | 第30-31页 |
| 2.3.2 晶粒大小的测定原理 | 第31-32页 |
| 2.4 电化学性能测定 | 第32-33页 |
| 2.5 实验仪器设备 | 第33-34页 |
| 2.5.1 场发射扫描电镜(FE-SEM) | 第33页 |
| 2.5.2 X 射线衍射仪（Bruker2Axe D8 Advance XRD） | 第33页 |
| 2.5.3 CHI660B 电化学工作站 | 第33页 |
| 2.5.4 视频光学接触角测量仪（Optical Contact Angle Measuring Device） | 第33-34页 |
| 2.5.5 其他实验设备 | 第34页 |
| 2.6 参考文献 | 第34-36页 |
| 第三章 直流法制备镍纳米网状结构薄膜的研究 | 第36-55页 |
| 3.1 添加剂的影响 | 第36-39页 |
| 3.2 主盐成分的影响 | 第39-43页 |
| 3.3 温度的影响 | 第43-45页 |
| 3.4 沉积时间的影响 | 第45-48页 |
| 3.5 电流密度的影响 | 第48-50页 |
| 3.6 镍纳米网状结构薄膜的微观结构表征 | 第50-53页 |
| 3.7 本章总结 | 第53-54页 |
| 3.8 参考文献 | 第54-55页 |
| 第四章 脉冲法制备镍纳米网状结构薄膜的研究 | 第55-64页 |
| 4.1 脉冲极值电流密度的影响 | 第56-59页 |
| 4.2 脉冲频率的影响 | 第59-60页 |
| 4.3 脉冲占空比的影响 | 第60-63页 |
| 4.4 本章总结 | 第63页 |
| 4.5 参考文献 | 第63-64页 |
| 第五章 镍纳米网状结构润湿行为的研究 | 第64-74页 |
| 5.1 表面润湿理论 | 第64-65页 |
| 5.2 不同形貌的润湿性能测试 | 第65-72页 |
| 5.3 本章总结 | 第72页 |
| 5.4 参考文献 | 第72-74页 |
| 第六章 全文总结和研究展望 | 第74-77页 |
| 6.1 全文总结 | 第74-75页 |
| 6.2 研究展望 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77-79页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第79-81页 |