| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 致谢 | 第8-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-22页 |
| 1.1 SiC 材料概述 | 第15-17页 |
| 1.1.1 SiC 材料的基本性能 | 第15页 |
| 1.1.2 SiC 材料的结构 | 第15-16页 |
| 1.1.3 SiC 的机械和理化性能 | 第16-17页 |
| 1.1.4 SiC 的光电性能 | 第17页 |
| 1.2 SiC 薄膜的制备方法 | 第17-19页 |
| 1.2.1 物理气相沉积（PVD） | 第17-18页 |
| 1.2.2 化学气相沉积（CVD） | 第18-19页 |
| 1.3 制备 SiC 薄膜亟待解决问题 | 第19页 |
| 1.4 SiC 的应用 | 第19-20页 |
| 1.5 本论文主要内容和创新 | 第20-21页 |
| 1.6 本章小结 | 第21-22页 |
| 第二章 磁控溅射原理及 SiC 薄膜制备和表征 | 第22-35页 |
| 2.1 磁控溅射原理 | 第22-24页 |
| 2.1.1 溅射镀膜 | 第22-23页 |
| 2.1.2 射频溅射原理 | 第23页 |
| 2.1.3 磁控溅射原理 | 第23页 |
| 2.1.4 磁控射频溅射技术的特点 | 第23-24页 |
| 2.2 薄膜生长过程原理 | 第24-26页 |
| 2.2.1 薄膜新相形核 | 第24-25页 |
| 2.2.2 连续薄膜的形成 | 第25页 |
| 2.2.3 薄膜的生长 | 第25-26页 |
| 2.3 SiC 薄膜的制备 | 第26-29页 |
| 2.3.1 制备薄膜所需材料和设备 | 第26-28页 |
| 2.3.2 薄膜样品的制备 | 第28-29页 |
| 2.4 SiC 薄膜的常用表征方法 | 第29-34页 |
| 2.4.1 X 射线衍射谱（XRD） | 第29-30页 |
| 2.4.2 原子力显微镜（AFM） | 第30页 |
| 2.4.3 硬度的测量 | 第30-31页 |
| 2.4.4 傅里叶变换红外光谱（FTIR） | 第31页 |
| 2.4.5 扫描电子显微镜（SEM） | 第31-32页 |
| 2.4.6 X 射线光电子能谱（XPS） | 第32页 |
| 2.4.7 膜基结合力的测量 | 第32-33页 |
| 2.4.8 膜厚的测定 | 第33页 |
| 2.4.9 电化学性能表征 | 第33-34页 |
| 2.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 工艺参数对 Si 基底 SiC 薄膜结构和性能的影响 | 第35-50页 |
| 3.1 溅射功率对 SiC 薄膜的影响 | 第35-38页 |
| 3.1.1 不同溅射功率下 SiC 薄膜样品的制备 | 第35页 |
| 3.1.2 SiC 薄膜厚度与红外透射光谱测试分析 | 第35-38页 |
| 3.2 溅射气压对 SiC 薄膜的影响 | 第38-41页 |
| 3.2.1 不同溅射气压下 SiC 薄膜样品的制备 | 第38页 |
| 3.2.2 不同溅射气压 SiC 薄膜 XRD 和 FTIR 图谱测试分析 | 第38-41页 |
| 3.3 衬底负偏压对 SiC 薄膜的影响 | 第41-46页 |
| 3.3.1 不同偏压下 SiC 薄膜样品的制备 | 第41页 |
| 3.3.2 SiC 薄膜的 FTIR、 XPS、 AFM 测试与分析 | 第41-42页 |
| 3.3.3 XPS 能谱讨论与分析 | 第42-46页 |
| 3.4 分步偏压法制备 SiC 薄膜 | 第46-49页 |
| 3.4.1 分步和单步偏压法制备 SiC 薄膜样品的工艺参数 | 第46页 |
| 3.4.2 FTIR、 AFM 测试与分析 | 第46-49页 |
| 3.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 SiC 薄膜的膜基结合力及过渡层制备技术 | 第50-58页 |
| 4.1 薄膜的膜基结合力简介 | 第50-52页 |
| 4.1.1 薄膜的附着力 | 第50-51页 |
| 4.1.2 薄膜的内应力 | 第51-52页 |
| 4.2 过渡层的选择 | 第52-53页 |
| 4.2.1 引言 | 第52页 |
| 4.2.2 过渡层的选择原理 | 第52-53页 |
| 4.3 缓冲层的制备和理化性质 | 第53-57页 |
| 4.3.1 Al_2O_3薄膜的制备及其性能 | 第53-55页 |
| 4.3.2 TiO_2薄膜的制备及其性能 | 第55-57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 过渡层对不锈钢基底 SiC 薄膜结构和性能的影响 | 第58-69页 |
| 5.1 不锈钢基 SiC 薄膜概述 | 第58页 |
| 5.2 不锈钢基 Al_2O_3/SiC 双层薄膜的制备和性能 | 第58-63页 |
| 5.2.1 Al_2O_3/SiC 双层膜与 SiC 单层膜的结构 | 第58-60页 |
| 5.2.2 Al_2O_3/SiC 双层膜与 SiC 单层膜的硬度 | 第60-61页 |
| 5.2.3 Al_2O_3/SiC 双层膜与 SiC 单层膜的盐水耐腐蚀性实验 | 第61-63页 |
| 5.2.4 小结 | 第63页 |
| 5.3 不锈钢基 TiO_2/SiC 双层薄膜的制备和性能 | 第63-68页 |
| 5.3.1 TiO_2/SiC 双层膜与 SiC 单层膜的结构 | 第64-65页 |
| 5.3.2 TiO_2/SiC 双层膜与 SiC 单层膜的表面形貌 | 第65-66页 |
| 5.3.3 TiO_2/SiC 双层膜的膜基结合力研究 | 第66-67页 |
| 5.3.4 小结 | 第67-68页 |
| 5.4 本章小结 | 第68-69页 |
| 第六章 总结与展望 | 第69-71页 |
| 6.1 总结 | 第69-70页 |
| 6.2 展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第77-78页 |
