| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-30页 |
| 1.1 课题研究的目的和意义 | 第9页 |
| 1.2 单分散SiO_2纳微颗粒 | 第9-14页 |
| 1.2.1 单分散SiO_2微球的制备 | 第9-12页 |
| 1.2.2 SiO_2溶胶的结构和特性 | 第12-13页 |
| 1.2.3 工艺条件的影响 | 第13-14页 |
| 1.3 SiO_2纳米粒子结构薄膜 | 第14-20页 |
| 1.3.1 无序SiO_2膜制备 | 第15-16页 |
| 1.3.2 有序SiO_2膜制备 | 第16-20页 |
| 1.3.3 SiO_2纳米结构薄膜的应用 | 第20页 |
| 1.4 薄膜的激光损伤 | 第20-24页 |
| 1.4.1 薄膜材料的本征吸收 | 第21-23页 |
| 1.4.2 杂质、缺陷吸收 | 第23页 |
| 1.4.3 光学薄膜的激光损伤阂值的影响因素 | 第23-24页 |
| 1.5 激光刻蚀亚波长条纹 | 第24-28页 |
| 1.5.1 激光刻蚀亚波长条纹的实验进展 | 第24-26页 |
| 1.5.2 激光刻蚀亚波长条纹的理论进展 | 第26-28页 |
| 1.5.3 亚波长条纹的应用 | 第28页 |
| 1.6 本论文主要工作 | 第28-30页 |
| 第2章 实验及表征 | 第30-43页 |
| 2.1 实验原料及设备 | 第30-31页 |
| 2.2 二氧化硅薄膜的制备 | 第31-35页 |
| 2.2.1 溶胶的配制 | 第31-32页 |
| 2.2.2 玻璃片清洗 | 第32-33页 |
| 2.2.3 浸渍提拉镀膜 | 第33-34页 |
| 2.2.4 薄膜的干燥及热处理 | 第34页 |
| 2.2.5 溶胶的离心分离 | 第34-35页 |
| 2.2.6 自组装有序膜 | 第35页 |
| 2.3 薄膜的纳秒激光损伤实验 | 第35-38页 |
| 2.4 薄膜性能表征 | 第38-43页 |
| 2.4.1 溶胶pH的测定 | 第38页 |
| 2.4.2 粘度测定 | 第38-40页 |
| 2.4.3 SiO_2溶胶的综合热分析 | 第40-41页 |
| 2.4.5 扫描电子显微镜(SEM)表征 | 第41-43页 |
| 第3章 实验结果及分析 | 第43-61页 |
| 3.1 溶胶热分析 | 第43-44页 |
| 3.2 工艺条件对提拉膜性能的影响 | 第44-53页 |
| 3.2.1 粘度的影响 | 第44-45页 |
| 3.2.2 pH的影响 | 第45-49页 |
| 3.2.3 水含量(N=H_2O/TEOS)的影响 | 第49-50页 |
| 3.2.4 催化剂含量(R=NH_3/TEOS)的影响 | 第50页 |
| 3.2.5 有机化学添加剂的影响 | 第50-52页 |
| 3.2.6 干燥及热处理工艺的影响 | 第52-53页 |
| 3.3 工艺条件对自组装膜的影响 | 第53-55页 |
| 3.3.1 单分散溶液浓度的影响 | 第53-54页 |
| 3.3.2 温度的影响 | 第54-55页 |
| 3.4 薄膜激光损伤及亚波长条纹的研究 | 第55-59页 |
| 3.4.1 颗粒尺寸与NH_3含量关系 | 第55-56页 |
| 3.4.2 不同颗粒尺寸膜的阈值 | 第56-57页 |
| 3.4.3 亚波长条纹的研究 | 第57-59页 |
| 3.5 本章小结 | 第59-61页 |
| 第4章 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 致谢 | 第65页 |