| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-13页 |
| 1.1 研究背景 | 第7-8页 |
| 1.2 CO催化氧化机理 | 第8页 |
| 1.3 SnO_2概述 | 第8-10页 |
| 1.4 Nb_2O_5/Ta_2O_5概述 | 第10-11页 |
| 1.5 Nb/Ta改性SnO_2的原理和过程 | 第11页 |
| 1.6 本课题的研究目的和意义 | 第11-13页 |
| 第2章 实验方法和数据处理 | 第13-19页 |
| 2.1 催化剂的制备 | 第13-15页 |
| 2.1.1 主要化学试剂和仪器 | 第13-14页 |
| 2.1.2 不同合成方法的Nb/Ta掺杂SnO_2催化剂的制备 | 第14-15页 |
| 2.1.3 不同Sn/Nb和Sn/Ta摩尔比催化剂的制备 | 第15页 |
| 2.2 催化剂的活性评价 | 第15-16页 |
| 2.3 样品的物性表征 | 第16-19页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第16-17页 |
| 2.3.2 比表面测定 | 第17页 |
| 2.3.3 程序升温还原(H_2-TPR) | 第17页 |
| 2.3.4 热重差示扫描量热法(TG-DSC) | 第17页 |
| 2.3.5 程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第17-18页 |
| 2.3.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第18-19页 |
| 第3章 Nb改性SnO_2基固溶体催化剂的CO氧化性能研究 | 第19-37页 |
| 3.1 不同Sn/Nb摩尔比催化剂对CO催化氧化反应性能 | 第19-21页 |
| 3.2 比表面积和孔结构分析 | 第21-23页 |
| 3.3 XRD表征 | 第23-25页 |
| 3.4 TG-DSC表征 | 第25-26页 |
| 3.5 Sn-Nb-O二元催化剂还原性能(H_2-TPR)分析 | 第26-29页 |
| 3.6 NH_3-TPD分析 | 第29-30页 |
| 3.7 XPS分析 | 第30-33页 |
| 3.8 Sn/Nb=5/1催化剂不同制备方法对比 | 第33-35页 |
| 3.8.1 不同制备方法的催化剂CO催化活性 | 第33页 |
| 3.8.2 不同制备方法的催化剂N_2-BET表征 | 第33-34页 |
| 3.8.3 不同制备方法的催化剂XRD | 第34-35页 |
| 3.8.4 不同制备方法的催化剂还原性能(H_2-TPR) | 第35页 |
| 3.9 稳定性测试 | 第35-36页 |
| 3.10 本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 最优CO催化氧化Sn-Nb-O催化剂的选择 | 第37-43页 |
| 4.1 最优制备方法考察 | 第37-38页 |
| 4.2 最优pH值考察 | 第38-39页 |
| 4.3 最优焙烧温度考察 | 第39-41页 |
| 4.4 最优Sn/Nb摩尔比例考察 | 第41-42页 |
| 4.5 本章小结 | 第42-43页 |
| 第5章 Ta改性SnO_2基固溶体催化剂的CO氧化性能研究 | 第43-51页 |
| 5.1 不同Sn/Ta摩尔比催化剂对CO催化氧化反应性能 | 第43-44页 |
| 5.2 比表面积和XRD分析 | 第44-46页 |
| 5.3 TG-DSC分析 | 第46-47页 |
| 5.4 H_2-TPR和XRD分析 | 第47-49页 |
| 5.5 Sn/Ta=5.5/0.5浸渍法制备性能研究 | 第49-50页 |
| 5.6 稳定性及抗水性能测试 | 第50页 |
| 5.7 本章小结 | 第50-51页 |
| 第6章 结论与展望 | 第51-53页 |
| 6.1 结论 | 第51页 |
| 6.2 下一步工作方向 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第60页 |
