聚硅氧烷基光引发剂的合成及其性能的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 符号说明 | 第9-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-40页 |
| ·引言 | 第16页 |
| ·光固化体系 | 第16-19页 |
| ·低聚物 | 第16-17页 |
| ·活性稀释剂 | 第17页 |
| ·光引发剂 | 第17-19页 |
| ·大分子光引发剂 | 第19-24页 |
| ·大分子光引发剂的优点 | 第19-20页 |
| ·自由基型大分子光引发剂的研究进展 | 第20-23页 |
| ·阳离子型大分子光引发剂的研究进展 | 第23-24页 |
| ·有机硅 | 第24-31页 |
| ·有机硅产品的特性 | 第24-25页 |
| ·有机硅光固化材料的发展 | 第25-30页 |
| ·有机硅光固化材料的应用 | 第30-31页 |
| ·梯度聚合 | 第31-35页 |
| ·聚合物功能梯度材料(PGM)的类型 | 第31-34页 |
| ·梯度聚合物的应用 | 第34-35页 |
| ·氧阻聚 | 第35-37页 |
| ·氧阻聚机理 | 第35-36页 |
| ·降低氧阻聚的方法 | 第36-37页 |
| ·课题的目的、意义和研究内容 | 第37-40页 |
| ·课题的目的、意义 | 第37页 |
| ·课题的研究内容 | 第37-40页 |
| 第二章 聚硅氧烷基光引发剂的合成及其动力学的研究 | 第40-50页 |
| ·概述 | 第40页 |
| ·实验原理及仪器 | 第40-41页 |
| ·实验原料 | 第40-41页 |
| ·实验仪器 | 第41页 |
| ·实验方法 | 第41-43页 |
| ·聚硅氧烷基大分子光引发剂的制备 | 第41-42页 |
| ·结构表征及性能测试 | 第42-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-48页 |
| ·红外光谱分析 | 第43-44页 |
| ·~1HNMZ核磁共振分析 | 第44-46页 |
| ·紫外吸收与降解分析 | 第46-47页 |
| ·光聚合动力学 | 第47-48页 |
| ·结论 | 第48-50页 |
| 第三章 梯度聚合 | 第50-60页 |
| ·概述 | 第50页 |
| ·实验原理及仪器 | 第50-51页 |
| ·实验原料 | 第50页 |
| ·实验仪器 | 第50-51页 |
| ·实验方法 | 第51-54页 |
| ·分子量梯度聚合物的制备 | 第51-52页 |
| ·表面迁移性的研究以及PTPGDA性能的表征 | 第52-54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-58页 |
| ·最顶层与最底层引发剂浓度的变化 | 第54-55页 |
| ·用XPS检测不同垂直高度下Si元素的含量 | 第55-56页 |
| ·用EDS检测不同垂直高度下Si元素的含量及分布 | 第56-57页 |
| ·用GPC检测不同垂直高度下聚合物的分子量 | 第57页 |
| ·用IR检测不同垂直高度下聚合物的双键转化率 | 第57-58页 |
| ·结论 | 第58-60页 |
| 第四章 二次聚合 | 第60-72页 |
| ·概述 | 第60页 |
| ·实验原料及仪器 | 第60-61页 |
| ·实验原料 | 第60页 |
| ·实验仪器 | 第60-61页 |
| ·实验方法 | 第61-63页 |
| ·聚合物基体的制备 | 第61页 |
| ·二次聚合 | 第61-62页 |
| ·表征 | 第62-63页 |
| ·结果与讨论 | 第63-71页 |
| ·表面张力 | 第63-64页 |
| ·聚合物基体的微观形貌与元素组成 | 第64-67页 |
| ·引发剂含量的变化对聚合物表面形貌产生的影响 | 第67-68页 |
| ·表面接枝 | 第68-69页 |
| ·接枝率 | 第69页 |
| ·接触角 | 第69-71页 |
| ·结论 | 第71-72页 |
| 第五章 主要结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 致谢 | 第78-80页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第80-82页 |
| 作者简介 | 第82-84页 |
| 导师简介 | 第84-85页 |
| 硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第85-86页 |
