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温敏二氧化钛薄膜的制备及其性能研究

摘要第2-3页
Abstract第3页
引言第8-9页
1 文献综述第9-25页
    1.1 TiO_2光催化技术的研究进展第9-19页
        1.1.1 TiO_2的基本性质和光催化机理第9-11页
        1.1.2 TiO_2光催化剂薄膜的制备方法第11-14页
        1.1.3 TiO_2光催化活性的影响因素第14-15页
        1.1.4 TiO_2光催化剂的改性第15-17页
        1.1.5 TiO_2光催化剂的应用第17-19页
    1.2 聚N-异丙基丙烯酰胺温敏材料第19-24页
        1.2.1 聚N-异丙基丙烯酰胺的结构和特性第19页
        1.2.2 温敏机理第19-20页
        1.2.3 PNIPAAm薄膜的制备方法第20-22页
        1.2.4 应用第22-24页
    1.3 选题意义和内容第24-25页
2 实验部分第25-35页
    2.1 实验药品与器械第25-26页
        2.1.1 实验原料与化学试剂第25页
        2.1.2 实验仪器与设备第25-26页
    2.2 TiO_2薄膜的制备第26-27页
        2.2.1 基体的预处理第26页
        2.2.2 TiO_2溶胶的制备第26-27页
        2.2.3 TiO_2膜层的制备第27页
    2.3 TiO_2薄膜制备过程中的主要影响因素第27-30页
        2.3.1 溶胶体系的选取第28-29页
        2.3.2 反应温度的影响第29页
        2.3.3 镀膜次数的影响第29-30页
        2.3.4 旋转速度的影响第30页
        2.3.5 煅烧温度的影响第30页
        2.3.6 操作因素第30页
    2.4 PNIPAAm/TiO_2复合膜层的制备第30-31页
    2.5 实验测试方法第31-32页
        2.5.1 扫描电镜(SEM)第31页
        2.5.2 能谱分析(EDS)第31页
        2.5.3 傅里叶红外光谱分析(FT-IR)第31页
        2.5.4 X射线衍射(XRD)第31页
        2.5.5 拉曼光谱(Raman)第31页
        2.5.6 紫外可见光谱(UV-vis)第31-32页
        2.5.7 X射线光电子能谱(XPS)第32页
        2.5.8 表面接触角测试(CA)第32页
    2.6 光催化降解性能实验第32-35页
        2.6.1 亚甲基蓝溶液的配制第32页
        2.6.2 光催化反应装置第32-33页
        2.6.3 测定最大吸收波长第33-34页
        2.6.4 光催化降解性能分析第34-35页
3 薄膜的表征结果研究第35-43页
    3.1 TiO_2薄膜的物相分析第35-36页
        3.1.1 TiO_2薄膜的XRD分析第35页
        3.1.2 TiO_2薄膜的Raman光谱第35-36页
    3.2 红外分析第36-38页
    3.3 表面形貌及薄膜厚度分析第38-39页
    3.4 能谱分析第39-40页
    3.5 元素分析第40-41页
    3.6 温敏性能考察第41-42页
    3.7 小结第42-43页
4 薄膜的光催化性能研究第43-49页
    4.1 TiO_2薄膜的光催化性能研究第43-45页
    4.2 PNIPAAm/TiO_2温敏性薄膜光催化活性分析第45-46页
    4.3 PNIPAAm/TiO_2温敏性薄膜降解亚甲基蓝溶液的稳定性第46-47页
        4.3.1 连续应用对薄膜光催化性能的影响第46-47页
        4.3.2 应用环境对薄膜稳定性的影响第47页
    4.4 小结第47-49页
结论第49-50页
工作展望第50-51页
参考文献第51-58页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第58-59页
致谢第59-61页

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