铌合金电子束熔覆成形及热作用仿真研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 课题目的及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 电子束表面改性工艺与机理研究现状 | 第10-13页 |
| 1.3 电子束表面改性数值模拟研究现状 | 第13-16页 |
| 1.3.1 电子束热源模型研究 | 第13-15页 |
| 1.3.2 电子束表面改性温度场研究 | 第15-16页 |
| 1.4 论文的主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 试验材料、设备及方法 | 第17-22页 |
| 2.1 试验材料 | 第17-19页 |
| 2.1.1 基材 | 第17-18页 |
| 2.1.2 涂层材料 | 第18-19页 |
| 2.2 试验设备与工艺 | 第19-20页 |
| 2.2.1 试验设备 | 第19页 |
| 2.2.2 熔覆工艺参数 | 第19-20页 |
| 2.3 微观分析与性能检测 | 第20-21页 |
| 2.3.1 组织结构分析 | 第20-21页 |
| 2.3.2 高温抗氧化性能测试 | 第21页 |
| 2.4 有限元分析方法 | 第21-22页 |
| 第3章 电子束熔覆硅化物涂层组织与性能 | 第22-35页 |
| 3.1 原始烧结硅化物涂层组织结构 | 第22-26页 |
| 3.1.1 烧结涂层表面成形 | 第22-23页 |
| 3.1.2 烧结涂层组织结构 | 第23-26页 |
| 3.1.3 烧结硅化物涂层形成过程 | 第26页 |
| 3.2 电子束熔覆处理涂层组织结构 | 第26-31页 |
| 3.2.1 熔覆涂层表面成形 | 第26-28页 |
| 3.2.2 熔覆涂层表面颗粒度分析 | 第28-29页 |
| 3.2.3 熔覆涂层组织结构 | 第29-31页 |
| 3.3 熔覆处理涂层高温抗氧化性能 | 第31-34页 |
| 3.3.1 熔覆涂层恒温氧化试验 | 第31-32页 |
| 3.3.2 熔覆涂层氧化后组织结构 | 第32-33页 |
| 3.3.3 熔覆涂层高温抗氧化机理 | 第33-34页 |
| 3.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 第4章 电子束熔覆的热作用有限元分析 | 第35-56页 |
| 4.1 热源模型的建立 | 第35-37页 |
| 4.2 温度场的数值模拟分析 | 第37-46页 |
| 4.2.1 温度场计算数学模型 | 第37-39页 |
| 4.2.2 材料热物理性能参数 | 第39-41页 |
| 4.2.3 有限元网格划分 | 第41-42页 |
| 4.2.4 温度场分布特征与规律 | 第42-45页 |
| 4.2.5 温度场试验验证 | 第45-46页 |
| 4.3 电子束熔覆的热作用影响 | 第46-50页 |
| 4.3.1 工艺参数对温度场分布的影响 | 第47-49页 |
| 4.3.2 热输入对涂层熔深的影响 | 第49-50页 |
| 4.4 电子束熔覆过程 | 第50-55页 |
| 4.4.1 重熔层的形成 | 第51-53页 |
| 4.4.2 微孔带的形成 | 第53-54页 |
| 4.4.3 扩散层增厚过程 | 第54-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
