摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第13-24页 |
1.1 黑硅技术简介 | 第14-19页 |
1.1.1 黑硅的研究意义 | 第14页 |
1.1.2 黑硅的制备方法 | 第14-19页 |
1.1.2.1 飞秒激光法 | 第15页 |
1.1.2.2 反应离子刻蚀法 | 第15-16页 |
1.1.2.3 电化学法 | 第16页 |
1.1.2.4 金属辅助化学腐蚀法 | 第16-19页 |
1.2 晶硅太阳电池简介 | 第19-22页 |
1.2.1 晶体硅太阳电池结构及原理 | 第19-20页 |
1.2.2 晶硅太阳电池制备工艺 | 第20-22页 |
1.3 本文研究内容 | 第22-24页 |
第二章 材料制备、结构和性能表征技术 | 第24-29页 |
2.1 主要实验设备及原料 | 第24-25页 |
2.1.1 主要实验设备 | 第24页 |
2.1.2 实验原料 | 第24-25页 |
2.2 制备方法 | 第25-28页 |
2.2.1 硅片清洗 | 第25-26页 |
2.2.2 多晶硅的酸制绒处理 | 第26页 |
2.2.3 Ag/Cu双原子辅助化学腐蚀法制备黑硅纳米结构 | 第26-27页 |
2.2.4 NSR湿法重构制备倒金字塔多晶黑硅结构 | 第27页 |
2.2.5 黑硅太阳电池的制备 | 第27-28页 |
2.3 性能表征仪器及方法 | 第28-29页 |
第三章 Ag/Cu双原子MACE法制备多晶黑硅纳米结构的研究 | 第29-46页 |
3.1 引言 | 第29-30页 |
3.2 Ag/Cu双原子MACE法制备工艺 | 第30-31页 |
3.3 不同Ag/Cu双原子协同腐蚀时间的影响 | 第31-33页 |
3.4 不同HF浓度对腐蚀结果的影响 | 第33-36页 |
3.5 不同H2O2浓度对腐蚀结果的影响 | 第36-38页 |
3.6 不同Ag/Cu原子摩尔浓度比r对腐蚀结果的影响 | 第38-43页 |
3.7 Ag/Cu双原子MACE法制备黑硅机理探讨 | 第43-44页 |
3.8 本章小结 | 第44-46页 |
第四章 NSR纳米重构可控制备倒金字塔陷光结构的研究 | 第46-61页 |
4.1 引言 | 第46-47页 |
4.2 NSR溶液刻蚀可控制备倒金字塔陷光结构工艺 | 第47页 |
4.3 不同NSR刻蚀时间的影响 | 第47-50页 |
4.4 不同NSR刻蚀温度的影响 | 第50-53页 |
4.5 倒金字塔结构形成机理探究 | 第53-56页 |
4.6 不同尺寸倒金字塔结构钝化性能研究 | 第56-59页 |
4.7 本章小结 | 第59-61页 |
第五章 Ag/Cu双原子MACE法制备的多晶黑硅太阳电池及其性能研究 | 第61-70页 |
5.1 引言 | 第61页 |
5.2 多晶黑硅太阳电池制备工艺流程 | 第61-62页 |
5.3 不同表面结构下制备的太阳电池 | 第62-64页 |
5.4 金刚线切割多晶太阳电池研究 | 第64-68页 |
5.4.1 金刚线切割硅片表面去线痕 | 第65-66页 |
5.4.2 金刚线切割多晶黑硅太阳电池的研制 | 第66-68页 |
5.5 总结 | 第68-70页 |
第六章 结论与展望 | 第70-73页 |
6.1 结论 | 第70-71页 |
6.2 本文主要创新点 | 第71-72页 |
6.3 展望 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-80页 |
致谢 | 第80-81页 |
在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第81页 |