| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1 文献综述 | 第11-24页 |
| 1.1 铁磁/反铁磁材料的交换偏置行为研究 | 第11-15页 |
| 1.1.1 铁磁/反铁磁材料的交换偏置行为 | 第11-12页 |
| 1.1.2 影响铁磁反铁磁材料交换偏置行为的因素 | 第12-15页 |
| 1.2 软磁非晶材料的交换偏置行为 | 第15-21页 |
| 1.2.1 非晶合金及制备 | 第15-17页 |
| 1.2.2 非晶软磁合金的热处理方法 | 第17页 |
| 1.2.3 非晶软磁薄带的交换偏置现象 | 第17-19页 |
| 1.2.4 偏置型非晶软磁薄带的应用 | 第19-21页 |
| 1.3 选题背景及意义 | 第21-24页 |
| 2 实验方法及设备 | 第24-34页 |
| 2.1 实验设计 | 第24-25页 |
| 2.1.1 成分设计 | 第24页 |
| 2.1.2 制备非晶薄带 | 第24-25页 |
| 2.2 差示扫描量热(DSC)分析与居里温度测试 | 第25-26页 |
| 2.3 钴基非晶薄带的热磁处理 | 第26-27页 |
| 2.4 结构分析 | 第27-28页 |
| 2.4.1 X 射线衍射测试 | 第27页 |
| 2.4.2 高分辨透射电镜(HRTEM)测试 | 第27-28页 |
| 2.5 磁性分析 | 第28-32页 |
| 2.5.1 磁滞回线测试 | 第28-29页 |
| 2.5.2 扫描探针显微镜(SPM)测试 | 第29-31页 |
| 2.5.3 矢量振动样品磁强计(VVSM)测试 | 第31-32页 |
| 2.6 本章小结 | 第32-34页 |
| 3 钴基非晶薄带的交换偏置现象 | 第34-40页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 实验方法 | 第34页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第34-39页 |
| 3.3.1 热磁处理样品的磁滞回线分析 | 第34-36页 |
| 3.3.2 XRD 测试分析 | 第36-37页 |
| 3.3.3 GID 测试分析 | 第37-38页 |
| 3.3.4 SPM 表面形貌分析 | 第38页 |
| 3.3.5 HRTEM 微观结构分析 | 第38-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 4 横向正反冲击场调控钴基非晶薄带交换偏置行为 | 第40-48页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 实验方法 | 第40-41页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第41-47页 |
| 4.3.1 磁滞回线分析 | 第41-42页 |
| 4.3.2 磁畴观测分析 | 第42-44页 |
| 4.3.3 矢量振动样品磁强计测试原理分析 | 第44-45页 |
| 4.3.4 VVSM 测试分析 | 第45-47页 |
| 4.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 5 纵向冲击场调控钴基非晶薄带交换偏置行为 | 第48-56页 |
| 5.1 引言 | 第48页 |
| 5.2 实验方法 | 第48-49页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第49-53页 |
| 5.3.1 磁滞回线分析 | 第49-50页 |
| 5.3.2 磁畴观测分析 | 第50-52页 |
| 5.3.3 VVSM 测试分析 | 第52-53页 |
| 5.4 对比不同调控手段对钴基薄带交换偏置现象的影响 | 第53-54页 |
| 5.5 本章小结 | 第54-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 在学研究成果 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |