| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-27页 |
| 1.1 前言 | 第11页 |
| 1.2 半导体光催化概述 | 第11-15页 |
| 1.2.1 研究进展 | 第11-12页 |
| 1.2.2 半导体光催化材料 | 第12页 |
| 1.2.3 半导体光催化的原理 | 第12-14页 |
| 1.2.4 光生载流子的复合 | 第14-15页 |
| 1.3 二氧化钛概述 | 第15-19页 |
| 1.3.1 二氧化钛的结构和性质 | 第15-16页 |
| 1.3.2 影响TiO_2光催化活性的因素 | 第16-18页 |
| 1.3.3 二氧化钛光催化存在的问题 | 第18-19页 |
| 1.4 二氧化钛改性 | 第19-22页 |
| 1.4.1 贵金属沉积法 | 第19-20页 |
| 1.4.2 半导体复合 | 第20页 |
| 1.4.3 表面光敏化 | 第20-21页 |
| 1.4.4 离子掺杂 | 第21-22页 |
| 1.5 二氧化钛膜 | 第22-25页 |
| 1.5.1 无机膜 | 第23页 |
| 1.5.2 二氧化钛膜的制备 | 第23-24页 |
| 1.5.3 二氧化钛膜的应用 | 第24-25页 |
| 1.6 本论文的意义及研究内容 | 第25-27页 |
| 1.6.1 研究意义 | 第25-26页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第26-27页 |
| 第二章 实验部分 | 第27-33页 |
| 2.1 实验药品及仪器 | 第27-28页 |
| 2.1.1 实验药品与试剂 | 第27页 |
| 2.1.2 实验仪器及设备 | 第27-28页 |
| 2.2 玻璃载体的预处理 | 第28页 |
| 2.3 二氧化钛薄膜的制备 | 第28-29页 |
| 2.3.1 铒掺杂二氧化钛溶胶的制备 | 第28页 |
| 2.3.2 添加司班80的二氧化钛溶胶的制备 | 第28-29页 |
| 2.3.3 二氧化钛薄膜的制备 | 第29页 |
| 2.4 表征与测试 | 第29-31页 |
| 2.4.1 X-射线衍射(XRD) | 第29-30页 |
| 2.4.2 扫描电镜(SEM) | 第30页 |
| 2.4.3 固体紫外-可见漫反射(UV-Vis) | 第30页 |
| 2.4.4 热重分析(TG-DTG) | 第30页 |
| 2.4.5 氮气吸附-脱附 | 第30-31页 |
| 2.4.6 紫外-可见分光光度计 | 第31页 |
| 2.5 光催化实验 | 第31-33页 |
| 2.5.1 模拟污染物的选择 | 第31页 |
| 2.5.2 甲基橙溶液标准工作曲线的绘制 | 第31-32页 |
| 2.5.3 光催化实验步骤 | 第32-33页 |
| 第三章 铒掺杂二氧化钛薄膜的制备及其光催化性能 | 第33-49页 |
| 3.1 引言 | 第33-34页 |
| 3.2 薄膜的制备 | 第34页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第34-42页 |
| 3.3.1 TG-DTG图 | 第34-35页 |
| 3.3.2 不同涂膜层数的薄膜 | 第35-36页 |
| 3.3.3 不同铒含量的薄膜 | 第36-39页 |
| 3.3.4 不同煅烧温度的薄膜 | 第39-41页 |
| 3.3.5 不同煅烧时间的薄膜 | 第41-42页 |
| 3.4 铒掺杂二氧化钛薄膜的光催化性能 | 第42-48页 |
| 3.4.1 光催化实验 | 第42-43页 |
| 3.4.2 膜的光催化性能 | 第43-48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 改性Er~(3+)-TiO_2薄膜的制备及其光催化性能 | 第49-57页 |
| 4.1 改性Er~(3+)-TiO_2薄膜的制备 | 第49-50页 |
| 4.2 TG-DTG分析 | 第50-51页 |
| 4.3 XRD表征 | 第51-52页 |
| 4.4 薄膜的SEM图 | 第52-53页 |
| 4.5 氮吸附表征 | 第53-55页 |
| 4.6 光催化活性 | 第55页 |
| 4.7 本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 结论及展望 | 第57-59页 |
| 5.1 结论 | 第57-58页 |
| 5.2 展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-67页 |
| 附录 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第71页 |