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霍尔推力器中背景磁场对电子行为影响的数值研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第9-21页
    1.1 课题背景及研究意义第9-11页
    1.2 霍尔推力器的结构和工作原理第11-13页
    1.3 霍尔推力器性能的主要影响因素第13-17页
        1.3.1 磁场对霍尔推力器性能的影响第13-14页
        1.3.2 阴极对霍尔推力器性能的影响第14-15页
        1.3.3 壁面条件对霍尔推力器性能的影响第15-16页
        1.3.4 工质对霍尔推力器性能的影响第16-17页
    1.4 霍尔推力器设计现状及分析第17-18页
    1.5 对磁场位形、电子物理过程研究的重要意义第18-20页
    1.6 本章小结第20-21页
2 计算霍尔推力器背景磁场迭代法的比较第21-31页
    2.1 霍尔推力器中磁场位形的研究概况第21-22页
    2.2 霍尔推力器背景磁场数学模型第22-24页
    2.3 霍尔推力器背景磁场数学模型的计算方法第24-28页
        2.3.1 无量纲化第24-25页
        2.3.2 差分格式第25-26页
        2.3.3 数值求解方法第26-27页
        2.3.4 计算步骤第27-28页
    2.4 数值结果与讨论第28-30页
    2.5 本章结论第30-31页
3 霍尔推力器中喷口陶瓷壁附近电子行为的数值研究第31-54页
    3.1 等离子体流体模型第31-32页
    3.2 流体模型计算方法第32-42页
        3.2.1 分量方程第32-33页
        3.2.2 初始条件及边界条件第33-34页
        3.2.3 无量纲化第34-36页
        3.2.4 差分格式第36-41页
        3.2.5 计算步骤第41-42页
    3.3 数值结果与讨论第42-53页
    3.4 本章结论第53-54页
结论第54-56页
参考文献第56-61页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第61-62页
致谢第62-63页

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