| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-28页 |
| 1.1 引言 | 第10-15页 |
| 1.1.1 印染及印染废水 | 第11-12页 |
| 1.1.2 印染废水来源 | 第12-13页 |
| 1.1.3 印染废水特点 | 第13页 |
| 1.1.4 相关法规 | 第13-14页 |
| 1.1.5 印染废水常规处理方法 | 第14-15页 |
| 1.2 等离子体技术 | 第15-19页 |
| 1.2.1 等离子体技术概述 | 第15页 |
| 1.2.2 低温等离子体发生方式 | 第15-19页 |
| 1.3 滑动弧放电等离子体技术 | 第19-23页 |
| 1.3.1 滑动弧等离子体技术原理 | 第19-21页 |
| 1.3.2 滑动弧放电等离子体中的活性组分 | 第21-23页 |
| 1.4 组合工艺 | 第23-25页 |
| 1.4.1 UV/H_2O_2/Fenton/O_3 | 第24页 |
| 1.4.2 低温等离子体/Fenton/光催化/生化法 | 第24-25页 |
| 1.5 反应器设计来源 | 第25-27页 |
| 1.6 研究内容及目的 | 第27-28页 |
| 第2章 等离子体-溶液系统物理特征 | 第28-35页 |
| 2.1 引言 | 第28页 |
| 2.2 实验系统 | 第28-29页 |
| 2.3 滑动弧电参数特性 | 第29-34页 |
| 2.3.1 电流、电压及功率特性 | 第29-31页 |
| 2.3.2 电弧移动特性 | 第31-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 等离子体-溶液系统降解模拟印染废水酸性橙7 | 第35-53页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 实验部分 | 第35-37页 |
| 3.2.1 实验装置 | 第35-36页 |
| 3.2.2 实验仪器及测量方法 | 第36-37页 |
| 3.3 结果及分析 | 第37-50页 |
| 3.3.1 等离子体-溶液系统对AO7的降解率及COD去除率 | 第38-39页 |
| 3.3.2 初始浓度对AO7降解率的影响 | 第39-41页 |
| 3.3.3 载气对降解率的影响 | 第41-43页 |
| 3.3.4 电压对AO7降解率的影响 | 第43-44页 |
| 3.3.5 参数变化对AO7溶液COD去除率的影响 | 第44-46页 |
| 3.3.6 等离子体溶液系统降解AO7产物分析 | 第46-48页 |
| 3.3.7 降解途径分析 | 第48-50页 |
| 3.4 不同技术降解AO7对比 | 第50-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-53页 |
| 第4章 等离子体-溶液系统联合零价铁降解酸性橙7 | 第53-63页 |
| 4.1 引言 | 第53页 |
| 4.2 实验装置及方法 | 第53-54页 |
| 4.3 系统引发Fenton反应的条件验证 | 第54-55页 |
| 4.4 实验结果 | 第55-62页 |
| 4.4.1 零价铁对AO7降解效果的影响 | 第55-56页 |
| 4.4.2 最佳零价铁投加量的确定 | 第56-57页 |
| 4.4.3 初始浓度对AO7溶液降解率的影响 | 第57-58页 |
| 4.4.4 AO7的COD去除率 | 第58-59页 |
| 4.4.5 处理前后零价铁表面特性分析 | 第59-60页 |
| 4.4.6 协同技术降解较高浓度混合印染废水 | 第60-62页 |
| 4.5 本章小结 | 第62-63页 |
| 5 全文总结及展望 | 第63-66页 |
| 5.1 全文总结 | 第63-65页 |
| 5.2 本文主要创新点 | 第65页 |
| 5.3 本文不足之处及下一步工作建议 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 作者简介 | 第71页 |
