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硅基多模干涉型光波导耦合器/偏振分束器的研制

摘要第4-5页
Abstract第5页
第一章 绪论第8-20页
    1.1 光波导耦合器研究进展第8-12页
        1.1.1 光波导耦合器的技术标准第8页
        1.1.2 光波导耦合器分类第8-10页
        1.1.3 光波导耦合器的调节方法第10-12页
    1.2 光波导偏振分束器研究进展第12-16页
        1.2.1 光波导偏振分束器的技术标准第13页
        1.2.2 光波导偏振分束器材料分类第13-14页
        1.2.3 光波导偏振分束器机理分类第14-16页
    1.3 工艺对SoS光波导无源器件性能的影响第16-17页
        1.3.1 波导与光纤耦合偏移问题第16页
        1.3.2 波导制备工艺带来的偏振问题第16-17页
    1.4 本文主要工作第17-20页
第二章 入口端偏移激励MMI型光波导耦合器分析第20-40页
    2.1 入口端中心激励多入/出MMI型光波导耦合器分析第20-24页
        2.1.1 自镜像效应第20-21页
        2.1.2 多模区模场分布及传输特性第21-24页
    2.2 入口端偏移激励多入/出MMI型光波导耦合器分析第24-27页
        2.2.1 入口端偏移激励引起的谐振现象第24-25页
        2.2.2 入口端偏移激励自镜像效应第25-26页
        2.2.3 分析与讨论第26-27页
    2.3 入口端偏移激励MMI型光波导耦合器分析第27-38页
        2.3.1 对称1×4 MMI型光波导耦合器波导元部件第27-30页
        2.3.2 对称1×4 MMI型光波导耦合器分析与讨论第30-32页
        2.3.3 非对称1×4 MMI型光波导耦合器分析与讨论第32-34页
        2.3.4 输出端并列耦合1×2 MMI型光波导耦合器优化设计第34-38页
    2.4 本章小结第38-40页
第三章 基于缓冲层隙缝的MMI型光波导偏振分束器分析第40-54页
    3.1 基于缓冲层隙缝的MMI型光波导偏振分束器机理第40-43页
        3.1.1 基于缓冲层隙缝的MMI型光波导偏振分束器结构第40-41页
        3.1.2 模场分布分析第41-43页
    3.2 波导端面结构优化设计第43-49页
        3.2.1 多模区模式分析第43-44页
        3.2.2 多模区宽度第44-45页
        3.2.3 隙缝深度与宽度第45-47页
        3.2.4 隙缝长度第47-49页
    3.3 偏振分束器优化设计第49-52页
        3.3.1 输出位置第49-50页
        3.3.2 多模区长度第50-52页
        3.3.3 偏振分束器分析与讨论第52页
    3.4 本章小结第52-54页
第四章 SoS-MMI型光波导耦合器/偏振分束器的制备、测试和分析第54-66页
    4.1 SoS基光波导制备工艺第54-56页
    4.2 测试系统第56-59页
        4.2.1 测试参数第56页
        4.2.2 测试系统构建第56-58页
        4.2.3 测试流程第58-59页
    4.3 SoS-MMI型光波导耦合器测试结果和分析第59-62页
        4.3.1 1×4 MMI型光波导耦合器测试结果分析第59-61页
        4.3.2 1×2 MMI型光波导耦合器测试结果分析第61-62页
    4.4 SoS-MMI型光波导偏振分束器的测试结果和分析第62-64页
    4.5 本章小结第64-66页
第五章 总结与展望第66-68页
致谢第68-70页
参考文献第70-74页
作者简介第74页

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