| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 同步辐射光电子能谱 | 第9-22页 |
| 1.1 同步辐射简介 | 第9-12页 |
| 1.1.1 同步辐射的背景与发展 | 第9-11页 |
| 1.1.2 北京同步辐射装置 | 第11-12页 |
| 1.2 光电子能谱 | 第12-15页 |
| 1.2.1 光电子能谱概述 | 第12页 |
| 1.2.2 光电子能谱基本理论 | 第12-13页 |
| 1.2.3 光电子能谱技术基本原理 | 第13-15页 |
| 1.3 北京同步辐射光电子能谱实验站 | 第15-22页 |
| 1.3.1 概述 | 第15-16页 |
| 1.3.2 北京同步辐射光电子能谱实验站设备与功能 | 第16-20页 |
| 1.3.3 北京同步辐射光电子能谱实验站4B9B光束线 | 第20页 |
| 1.3.4 原位电子结构实验研究 | 第20-22页 |
| 第二章 掺铌钛酸锶(Nb-SrTiO3)单晶的表面原位研究 | 第22-34页 |
| 2.1 钛酸锶研究背景 | 第22-23页 |
| 2.2 钛酸锶表面处理方式 | 第23-24页 |
| 2.3 钛酸锶单晶表面的原位研究 | 第24-33页 |
| 2.3.1 掺铌钛酸锶单晶的光电子能谱研究 | 第24-31页 |
| 2.3.2 掺铌钛酸锶单晶真空退火后的表面表征 | 第31-33页 |
| 2.4 小结 | 第33-34页 |
| 第三章 SRO/STO薄膜生长初步探索与研究 | 第34-54页 |
| 3.1 薄膜材料的概述 | 第34-36页 |
| 3.1.1 薄膜材料的发展 | 第34-35页 |
| 3.1.2 薄膜材料的制备 | 第35-36页 |
| 3.2 脉冲激光沉积法(PLD) | 第36-38页 |
| 3.2.1 脉冲激光沉积法的基本原理 | 第36-37页 |
| 3.2.2 靶材的制备 | 第37-38页 |
| 3.3 薄膜表征 | 第38-42页 |
| 3.3.1 X射线衍射(XRD) | 第38-39页 |
| 3.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第39-41页 |
| 3.3.3 原子力显微镜(AFM) | 第41-42页 |
| 3.4 钌酸锶(SrRuO_3)的性能及研究进展 | 第42-44页 |
| 3.5 SrRuO_3薄膜的制备与光电子能谱表征 | 第44-52页 |
| 3.5.1 SrRuO_3薄膜的制备 | 第44-47页 |
| 3.5.2 SrRuO_3薄膜光电子能谱表征 | 第47-51页 |
| 3.5.3 SRO薄膜的表面形貌的表征 | 第51-52页 |
| 3.6 本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 总结与展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 己发表文章 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
