介孔WO3薄膜的制备与电致变色性能研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 WO_3 的基本性质与结构 | 第8-9页 |
| 1.1.1 WO_3 的基本性质 | 第8页 |
| 1.1.2 WO_3 的结构 | 第8-9页 |
| 1.2 WO_3 多孔薄膜的制备方法 | 第9-10页 |
| 1.2.1 溶胶凝胶法 | 第9-10页 |
| 1.2.2 阳极氧化法 | 第10页 |
| 1.2.3 电沉积法 | 第10页 |
| 1.2.4 模板法 | 第10页 |
| 1.3 研究现状 | 第10-13页 |
| 1.4 本论文研究内容与创新点 | 第13-14页 |
| 2 金属W薄膜的制备与表征 | 第14-28页 |
| 2.1 金属W薄膜的制备与表征方法 | 第14-17页 |
| 2.1.1 W薄膜的制备 | 第14-15页 |
| 2.1.2 W薄膜表征方法 | 第15-17页 |
| 2.2 溅射电流对W薄膜性能的影响 | 第17-20页 |
| 2.2.1 物相分析 | 第17-18页 |
| 2.2.2 表面形貌分析 | 第18-20页 |
| 2.2.3 透过率分析 | 第20页 |
| 2.3 基底温度对W薄膜性能的影响 | 第20-23页 |
| 2.3.1 物相分析 | 第20-22页 |
| 2.3.2 表面形貌分析 | 第22-23页 |
| 2.3.3 透过率分析 | 第23页 |
| 2.4 退火处理 | 第23-26页 |
| 2.5 ITO基底上W薄膜的研究 | 第26-27页 |
| 2.6 小结 | 第27-28页 |
| 3 介孔WO_3 薄膜的制备与表征 | 第28-36页 |
| 3.1 介孔WO_3 薄膜的制备 | 第28-29页 |
| 3.2 氧化时间对WO_3 薄膜性能的影响 | 第29-31页 |
| 3.3 氧化电压对WO_3 薄膜性能的影响 | 第31页 |
| 3.4 退火处理 | 第31-34页 |
| 3.5 小结 | 第34-36页 |
| 4 介孔WO_3 薄膜电致变色性能的研究 | 第36-41页 |
| 4.1 电致变色实验 | 第36-37页 |
| 4.2 光学调制幅度分析 | 第37-38页 |
| 4.3 响应时间特性分析 | 第38-39页 |
| 4.4 记忆存储能力分析 | 第39页 |
| 4.5 小结 | 第39-41页 |
| 结论与展望 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-45页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46页 |
