基于乳酸体系CSD快速制备GdBiO3缓冲层的工艺及其机理研究
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 超导材料概述 | 第11-12页 |
| 1.1.1 应用 | 第11-12页 |
| 1.1.2 分类 | 第12页 |
| 1.2 涂层导体YBCO | 第12-17页 |
| 1.2.1 结构与制备 | 第13-17页 |
| 1.2.2 发展近况 | 第17页 |
| 1.3 缓冲层 | 第17-21页 |
| 1.3.1 缓冲层材料 | 第18-19页 |
| 1.3.2 化学溶液法制备技术 | 第19-21页 |
| 1.4 外延薄膜成相机制 | 第21-23页 |
| 1.5 本文研究的意义、方法与主要内容 | 第23-25页 |
| 第2章 实验 | 第25-31页 |
| 2.1 实验设计 | 第25-27页 |
| 2.1.1 薄膜制备准备工作 | 第25-26页 |
| 2.1.2 薄膜制备工艺 | 第26-27页 |
| 2.2 薄膜表征方法、原理及设备 | 第27-31页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第28-29页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第29页 |
| 2.2.3 原子力显微镜(AFM) | 第29-31页 |
| 第3章 快速制备工艺及机理研究 | 第31-46页 |
| 3.1 涂覆与浓度选择 | 第31-34页 |
| 3.2 快速挥发 | 第34-39页 |
| 3.3 薄膜的分解过程 | 第39-45页 |
| 3.3.1 三步法 | 第39-40页 |
| 3.3.2 两步法工艺探索 | 第40-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 GBO外延成相 | 第46-56页 |
| 4.1 成相温度对GBO外延生长的影响 | 第46-48页 |
| 4.2 气氛对GBO外延区间的影响 | 第48-50页 |
| 4.3 外延成相时间对GBO外延的影响 | 第50-52页 |
| 4.4 关于GBO外延生长工艺优化探索 | 第52-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 攻读硕士期间发表的论文和研究成果 | 第63页 |
