红外双色滤光片的研制及其低温光谱研究
致谢 | 第4-6页 |
摘要 | 第6-8页 |
ABSTRACT | 第8-9页 |
1 引言 | 第12-25页 |
1.1 双色或多色滤光器件 | 第13-18页 |
1.1.1 轮转滤光片组件 | 第13-14页 |
1.1.2 集成多个通道的阵列滤光片 | 第14-16页 |
1.1.3 可调制的滤光器件 | 第16-17页 |
1.1.4 多色或双色干涉滤光片 | 第17-18页 |
1.2 双色探测器和双色滤光片组合的红外探测技术 | 第18-22页 |
1.2.1 双色探测技术的应用 | 第18-19页 |
1.2.2 红外双色探测器 | 第19-21页 |
1.2.3 红外双色滤光片 | 第21-22页 |
1.3 本论文工作概述 | 第22-25页 |
1.3.1 本论文工作的意义 | 第22-23页 |
1.3.2 本论文主要内容 | 第23-25页 |
2 双色滤光片的设计 | 第25-44页 |
2.1 自动优化设计 | 第25-26页 |
2.2 缓冲层和组合膜系设计 | 第26-28页 |
2.3 F-P膜系为基础的设计 | 第28-34页 |
2.3.1 波峰的多次重复 | 第28-31页 |
2.3.2 厚间隔层的F-P膜系 | 第31-32页 |
2.3.3 分形结构的F-P膜系 | 第32-34页 |
2.4 基于组合F-P膜系的双色滤光片设计 | 第34-42页 |
2.4.1 基础F-P膜系的确定 | 第35-37页 |
2.4.2 双色滤光片的设计 | 第37-39页 |
2.4.3 通道带宽的调整 | 第39-40页 |
2.4.4 通道间距离分析 | 第40-42页 |
2.5 小结 | 第42-44页 |
3 双色滤光片的制备 | 第44-73页 |
3.1 薄膜沉积设备介绍 | 第44-45页 |
3.2 研制工艺 | 第45-51页 |
3.2.1 膜层沉积工艺 | 第45-47页 |
3.2.2 工艺要求 | 第47-49页 |
3.2.3 工艺流程 | 第49-51页 |
3.3 膜层的光学特性 | 第51-57页 |
3.3.1 光学常数测试方法 | 第51-52页 |
3.3.2 光学常数测试结果 | 第52-54页 |
3.3.3 膜层光能损耗 | 第54-57页 |
3.4 膜厚监控方法 | 第57-64页 |
3.4.1 膜厚的晶振控制 | 第58-60页 |
3.4.2 膜厚的光学监控 | 第60-62页 |
3.4.3 其它监控方法 | 第62-64页 |
3.5 双色滤光片工艺实现 | 第64-71页 |
3.5.1 用于实际监控的膜系设计 | 第64-65页 |
3.5.2 确定监控方法 | 第65页 |
3.5.3 监控策略分析 | 第65-68页 |
3.5.4 监控实施和实际的膜层沉积效果 | 第68-71页 |
3.6 小结 | 第71-73页 |
4 膜厚误差分析 | 第73-97页 |
4.1 误差来源 | 第73-77页 |
4.1.1 厚度误差 | 第73-75页 |
4.1.2 光学常数误差 | 第75-77页 |
4.2 监控误差导致膜厚误差的机理 | 第77-79页 |
4.3 误差对设计膜系的光谱性能影响 | 第79-87页 |
4.3.1 随机误差光谱影响 | 第79-84页 |
4.3.2 不同膜层对膜系整体光谱的影响 | 第84-87页 |
4.4 双色滤光膜系的误差分析 | 第87-95页 |
4.5 小结 | 第95-97页 |
5 滤光片低温光谱研究 | 第97-113页 |
5.1 温度对膜层材料物理特性影响 | 第98-100页 |
5.2 光学常数温度特性测试方法 | 第100页 |
5.3 低温光谱测试设备 | 第100-102页 |
5.4 单层膜低温光谱测试 | 第102-105页 |
5.5 膜层材料的低温光学常数拟合 | 第105-109页 |
5.6 双色滤光片低温光谱模拟 | 第109-111页 |
5.7 小结 | 第111-113页 |
6 总结与展望 | 第113-117页 |
6.1 总结 | 第113-115页 |
6.1.1 研究过程 | 第113-114页 |
6.1.2 主要结果 | 第114-115页 |
6.1.3 主要创新点 | 第115页 |
6.2 展望 | 第115-117页 |
参考文献 | 第117-124页 |
作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第124页 |