能量色散XRF分析中单标样改进型FP法的研究与应用
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第1章 引言 | 第11-15页 |
| 1.1 概述 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第12-13页 |
| 1.3 课题来源与主要研究成果 | 第13-15页 |
| 第2章 EDXRF技术物理原理 | 第15-31页 |
| 2.1 定性分析 | 第15-17页 |
| 2.1.1 基本原理 | 第15页 |
| 2.1.2 莫塞莱定律 | 第15-17页 |
| 2.2 定量分析 | 第17页 |
| 2.3 X荧光强度的理论计算 | 第17-25页 |
| 2.3.1 一次（原级）荧光强度计算 | 第18-20页 |
| 2.3.2 二次（次级）荧光强度计算 | 第20-22页 |
| 2.3.3 三次（第三级）荧光强度计算 | 第22-24页 |
| 2.3.4 X射线荧光相对强度 | 第24页 |
| 2.3.5 特征X射线在仪器中产生的计数率 | 第24-25页 |
| 2.4 基本参数法基本原理 | 第25-28页 |
| 2.4.1 质量吸收系数 | 第25-26页 |
| 2.4.2 荧光产额 | 第26-27页 |
| 2.4.3 谱线分数 | 第27页 |
| 2.4.4 吸收限跃迁因子 | 第27-28页 |
| 2.4.5 激发因子 | 第28页 |
| 2.5 经验系数法 | 第28-31页 |
| 第3章 FP法单标样改进型分析技术 | 第31-51页 |
| 3.1 单标样刻度理论推导 | 第31-33页 |
| 3.2 工作方法流程 | 第33页 |
| 3.3 基本参数的获取 | 第33-35页 |
| 3.4 原级X光管输出谱获取 | 第35-42页 |
| 3.4.1 蒙特卡洛方法 | 第35-38页 |
| 3.4.2 Al窗选择分析 | 第38-39页 |
| 3.4.3 X光管输出谱模拟 | 第39-42页 |
| 3.4.4 滤片选择分析 | 第42页 |
| 3.5 谱线数据处理 | 第42-50页 |
| 3.5.1 谱线光滑 | 第43-46页 |
| 3.5.2 散射本底扣除 | 第46-49页 |
| 3.5.3 峰面积求和 | 第49-50页 |
| 3.6 仪器固定参数G值获取 | 第50页 |
| 3.7 定量分析实现 | 第50-51页 |
| 第4章 改进型FP法分析技术的应用 | 第51-61页 |
| 4.1 仪器设备 | 第51-52页 |
| 4.2 结果分析 | 第52-59页 |
| 4.2.1 Ni元素测试数据结果分析 | 第53-55页 |
| 4.2.2 Cu元素测试数据结果分析 | 第55-57页 |
| 4.2.3 Zn元素测试数据结果分析 | 第57-59页 |
| 4.3 小结 | 第59-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 攻读学位期间取得学术成果 | 第65页 |
