| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 薄膜材料的应用 | 第10-11页 |
| 1.2.1 薄膜材料的光学应用 | 第10-11页 |
| 1.2.2 薄膜材料的电磁学应用 | 第11页 |
| 1.3 纳米金属薄膜 | 第11-17页 |
| 1.3.1 纳米金属薄膜的电磁特性 | 第12-14页 |
| 1.3.2 纳米金属薄膜的应用 | 第14-17页 |
| 1.3.2.1 纳米金属薄膜的光学应用 | 第15页 |
| 1.3.2.2 纳米金属薄膜的电磁吸波应用 | 第15-17页 |
| 1.4 频率选择表面吸波结构的研究进展 | 第17页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第17-18页 |
| 参考文献 | 第18-22页 |
| 第二章 薄膜型Salisbury屏吸波结构 | 第22-31页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 Salisbury屏 | 第22-30页 |
| 2.2.1 单层Salisbury屏的分析 | 第23-26页 |
| 2.2.1.1 电损耗型 | 第24-25页 |
| 2.2.1.2 磁损耗型 | 第25页 |
| 2.2.1.3 任意损耗型 | 第25-26页 |
| 2.2.2 Salisbury屏吸波结构性能影响因素分析 | 第26-30页 |
| 2.2.2.1 薄膜表面阻抗对Salisbury屏吸波结构性能的影响 | 第26-27页 |
| 2.2.2.2 介质基底层参数对Salisbury屏吸波结构性能的影响 | 第27-30页 |
| 2.3 小结 | 第30页 |
| 参考文献 | 第30-31页 |
| 第三章 阻抗型频率选择表面吸波结构 | 第31-44页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 频率选择表面简介及分类 | 第31-33页 |
| 3.2.1 频率选择表面简介 | 第31-32页 |
| 3.2.2 频率选择表面的分类 | 第32-33页 |
| 3.3 频率选择表面的设计与分析方法 | 第33-34页 |
| 3.4 阻抗型频率选择表面的等效电路模型分析 | 第34-36页 |
| 3.5 影响阻抗型频率选择表面吸波结构性能的因素 | 第36-41页 |
| 3.5.1 介质基底层厚度对吸波结构性能的影响 | 第37-38页 |
| 3.5.2 频率选择表面周期单元参数对吸波结构性能的影响 | 第38-41页 |
| 3.5.2.1 表面阻抗对吸波结构工作性能的影响 | 第38-39页 |
| 3.5.2.2 方格边长对吸波结构工作性能的影响 | 第39-40页 |
| 3.5.2.3 方格间隙对吸波结构工作性能的影响 | 第40-41页 |
| 3.6 小结 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-44页 |
| 第四章 基于纳米金属/介质薄膜的吸波结构的制备 | 第44-54页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 多层纳米金属/介质薄膜吸波结构的设计 | 第44-45页 |
| 4.3 薄膜材料的制备方法 | 第45-48页 |
| 4.3.1 化学气相沉积 | 第45页 |
| 4.3.2 物理气相沉积 | 第45-48页 |
| 4.3.2.1 溅射法 | 第46页 |
| 4.3.2.2 蒸发法 | 第46-47页 |
| 4.3.2.3 电子束蒸发法的优点 | 第47-48页 |
| 4.4 多层纳米金属/介质薄膜吸波结构的制备 | 第48-53页 |
| 4.4.1 镀膜设备介绍 | 第48-49页 |
| 4.4.2 薄膜制备过程 | 第49-51页 |
| 4.4.3 薄膜厚度的测量与修正 | 第51页 |
| 4.4.4 阻抗型频率选择表面吸波结构的制备 | 第51-53页 |
| 4.5 小结 | 第53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
| 第五章 吸波结构性能测量及分析 | 第54-66页 |
| 5.1 引言 | 第54页 |
| 5.2 测量系统与原理介绍 | 第54-59页 |
| 5.2.1 弓形架测试法反射测量系统 | 第54-55页 |
| 5.2.2 自由空间法透射测量系统 | 第55-58页 |
| 5.2.2.1 自由空间法透射测量系统介绍 | 第55-56页 |
| 5.2.2.2 自由空间法透射测量基本原理 | 第56-58页 |
| 5.2.2.3 自由空间法透射测量系统的TRL校准 | 第58页 |
| 5.2.3 时域门技术 | 第58-59页 |
| 5.3 吸波结构性能测量 | 第59-62页 |
| 5.3.1 薄膜型Salisbury屏吸波结构性能测量 | 第59-60页 |
| 5.3.2 阻抗型频率选择表面屏吸波结构性能测量 | 第60-62页 |
| 5.4 薄膜型吸波材料透射测量 | 第62-64页 |
| 5.5 小结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-66页 |
| 第六章 总结与展望 | 第66-68页 |
| 6.1 总结 | 第66-67页 |
| 6.2 展望 | 第67-68页 |
| 攻读硕士期间的成果 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
